污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
北京中科科美科技股份有限公司
會員1.png)
北京中科科美科技股份有限公司
| 參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地
聯(lián)系方式：查看聯(lián)系方式
更新時(shí)間：2023-12-20 12:17:43瀏覽次數(shù)：265次
聯(lián)系我時(shí)，請告知來自 環(huán)保在線該設(shè)備用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積?？慑兏鞣N硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜，亦可鍍鐵磁材料。圖示鍍膜機(jī)為雙腔室，共用高真空系統(tǒng)；為避免交叉污染，一個腔室可實(shí)現(xiàn)電子槍/電阻蒸發(fā)鍍膜，另一腔室可實(shí)現(xiàn)濺射鍍膜。
一、應(yīng)用領(lǐng)域
該設(shè)備用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積?？慑兏鞣N硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜，亦可鍍鐵磁材料。圖示鍍膜機(jī)為雙腔室，共用高真空系統(tǒng);為避免交叉污染，一個腔室可實(shí)現(xiàn)電子槍/電阻蒸發(fā)鍍膜，另一腔室可實(shí)現(xiàn)濺射鍍膜。
二、性能參數(shù)
1. 極限真空壓力:5×10-5Pa;
2. 磁控靶：直徑Φ50 數(shù)量：2-4只;
3. 靶單位面積功率:(W/cm2)5～20;
4. 靶電源功率(W):DC500W，RF500W;
5. 基片加熱溫度:0～500℃可控;
6. 工藝氣體：MFC 1-3路;
7. 樣品架：公轉(zhuǎn) 2-20rpm可調(diào);
8. 電子槍：1套 6-10KW 電(氣)動擋板;
9. 蒸發(fā)電源：數(shù)量：1-2組 功率：2KW 電壓：0-35V;
10. 其它配置：偏壓、膜厚儀、薄膜規(guī)、磁控靶電(氣)動擋板可選;
您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
環(huán)保在線 設(shè)計(jì)制作，未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗(yàn)證碼
