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DHDM系列直流磁控濺射鍍膜裝置DH450-ZZK真空鍍膜機(jī)/DH450-ZZF真空鍍膜機(jī)/DH-500JJC多靶磁控濺射鍍膜機(jī)/DH-900DZX電弧/磁控濺射箱式鍍膜機(jī)/DH-500ZZS箱...

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西安明克斯向國(guó)內(nèi)用戶現(xiàn)貨提供DHDM系列直流磁控濺射鍍膜裝置，歡迎選購(gòu)。一、DHDM系列直流磁控濺射鍍膜裝置概述： DHDM-1DHDM-2DHDM-3沉積室玻璃真空室不銹鋼真空室濺射電源直流200～700V可調(diào)，功率0～1000W可調(diào)磁控靶Φ50mm平面靶真空系統(tǒng)機(jī)械泵機(jī)械泵+擴(kuò)散泵機(jī)械泵+分子泵極限真空6.7×10-1Pa5×10-4Pa8×10-5Pa 恢復(fù)真空2Pa5×10-3......

詳細(xì)介紹

西安明克斯向國(guó)內(nèi)用戶現(xiàn)貨提供DHDM系列直流磁控濺射鍍膜裝置，歡迎選購(gòu)。

一、DHDM系列直流磁控濺射鍍膜裝置概述：

	DHDM-1	DHDM-2	DHDM-3
沉積室	玻璃真空室	不銹鋼真空室
濺射電源	直流200～700V可調(diào)，功率0～1000W可調(diào)
磁控靶	Φ50mm平面靶
真空系統(tǒng)	機(jī)械泵	機(jī)械泵+擴(kuò)散泵	機(jī)械泵+分子泵
極限真空	6.7×10-1Pa	5×10-4Pa	8×10-5Pa
恢復(fù)真空	2Pa	5×10-3Pa	8×10-4Pa
進(jìn)氣系統(tǒng)	二路轉(zhuǎn)子流量計(jì)或二路質(zhì)量流量計(jì)
襯底溫度	室溫至300℃可調(diào)可控；
真空測(cè)量	數(shù)顯電阻真空計(jì)	數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)

DHDM-2 詳細(xì)規(guī)格參數(shù)
DHDM-2 1、濺射鍍膜室：玻璃鐘罩+不銹鋼底座，真空室尺寸：Φ300×360mm；
2、濺射電源：直流200～1000 V，功率0～1000 W可調(diào)；
3、濺射靶：Φ2英寸磁控靶，基片臺(tái)和磁控靶可調(diào)距離：20～40 mm；
4、基片溫度：室溫～200℃ PID控制；
5、真空測(cè)量：數(shù)顯電阻真空計(jì)；
6、進(jìn)氣系統(tǒng)：二路質(zhì)量流量計(jì)；
7、真空系統(tǒng)：2XZ-4B機(jī)械泵+K-100擴(kuò)散泵；
8、極限真空：5×10-4 Pa；
9、恢復(fù)真空：5×10-3 Pa
10、工作電源：AC220V±5%，50Hz；
11、整機(jī)配有水流報(bào)警系統(tǒng)，在水壓不夠或斷水時(shí)報(bào)警，并切斷濺射電源、機(jī)械泵電源等；采用獨(dú)立式電控柜，帶獨(dú)立滾輪，方便維修。電氣元件：主要采用法國(guó)施耐德品牌或韓國(guó) LG 品牌產(chǎn)品，產(chǎn)品故障率低；
12、隨機(jī)配有高純度銅靶材。
配件冷卻水系統(tǒng)；注：可用實(shí)驗(yàn)室自來(lái)水
氣源：氬氣（99.99%），40升鋼瓶帶減壓閥。
超聲波清洗機(jī)：3升/90W/59HZ

DH450-ZZK 真空鍍膜機(jī)	本裝置適用于在塑膠、玻璃、陶瓷等材質(zhì)的工件上鍍制金屬膜、裝飾膜、硬質(zhì)膜、金剛膜、或光學(xué)膜等科研與生產(chǎn)工作。主要技術(shù)參數(shù) 1、真空室：鍍膜室尺寸：Φ450×540mm；結(jié)構(gòu)：箱式前開(kāi)門結(jié)構(gòu)，后置抽氣系統(tǒng)，手動(dòng)推拉式；觀察窗：鍍膜室門上配有Φ100mm觀察窗； 2、蒸發(fā)組件：蒸發(fā)電源（3KW/10V）2組；水冷蒸發(fā)電極2對(duì)； 3、控制方式：手動(dòng)按鍵式； 4、旋轉(zhuǎn)夾具：球面拱形夾具，0~30r/min無(wú)級(jí)可調(diào)（可根據(jù)要求定制）； 5、工件烘烤：室溫～300℃（PID控制）； 6、真空測(cè)量：數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)； 7、供電電源：三相AC380V，50Hz； 8、選配件：石英晶振膜厚測(cè)控儀、高壓離子轟擊； 9、用戶需自備或另購(gòu)冷卻水系統(tǒng)。	1、真空系統(tǒng)：機(jī)械泵（2XZ-8B機(jī)械泵）+擴(kuò)散泵（K-200不銹鋼擴(kuò)散泵）； 2、極限真空：2×10^-4Pa； 3、恢復(fù)真空：5×10^-3 Pa（小于25min）。
DH450-ZZF 真空鍍膜機(jī)		1、真空系統(tǒng)：機(jī)械泵（2ZX-8機(jī)械泵）+分子泵（FF160/620分子泵）； 2、極限真空：6.7×10^-5Pa； 3、恢復(fù)真空：5×10^-4Pa（小于45min）。
DH-500JJC 多靶磁控濺射鍍膜機(jī)	該設(shè)備是單室多靶磁控濺射鍍膜設(shè)備，主要用磁控濺射或反應(yīng)濺射的方法制備金屬膜，半導(dǎo)體膜，陶瓷膜，介質(zhì)復(fù)合膜及多層膜和其它化學(xué)反應(yīng)膜及摻雜膜等。適用于鍍制各種單層膜，多層膜及摻雜膜系。主要技術(shù)參數(shù) 1、真空室內(nèi)腔尺寸：Φ500×600（mm）為圓筒式電動(dòng)上掀蓋全不銹鋼結(jié)構(gòu)； 2、極限真空度：≤5×10^-5 Pa(系統(tǒng)經(jīng)烘烤)； 3、恢復(fù)真空：從大氣抽至6.4×10^-4Pa ≤（40分鐘）； 4、觀察窗：規(guī)格Φ100mm帶護(hù)目遮板數(shù)量：2個(gè)； 5、濺射靶組件：3組Φ2英寸磁控靶，基片臺(tái)和磁控靶可調(diào)距離：110～130mm可調(diào)，并有調(diào)位距離指示；三套靶電動(dòng)擋板，每個(gè)靶前面配有一套靶擋板，電動(dòng)控制可遮擋三個(gè)工件位置；靶在下，基片在上，向上濺射成膜；射頻濺射與直流濺射兼容，靶內(nèi)有水冷； 6、樣品轉(zhuǎn)臺(tái)：基片尺寸45×60mm；三個(gè)可以放置基片位置，一個(gè)基片臺(tái)可以加熱；加熱溫度可達(dá)到500℃；基片轉(zhuǎn)盤能夠0～360°來(lái)回轉(zhuǎn)動(dòng)。拆掉加熱裝置測(cè)量線和電源線后能夠?qū)崿F(xiàn)連續(xù)回轉(zhuǎn)；基片可以加負(fù)偏壓，在0～-200V連續(xù)可調(diào)； 7、真空系統(tǒng)：機(jī)械泵+分子泵準(zhǔn)無(wú)油真空系統(tǒng)； 8、工作氣路：二路質(zhì)量流量控制器控制進(jìn)氣； 9、濺射電源：直流電源 1000W 1臺(tái)；射頻電源 500W（13.56MHz）2臺(tái)； 10、供電電源：三相AC380V，50Hz； 11、真空測(cè)量：數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)； 12、配有膜厚控制系統(tǒng)； 13、選購(gòu)件：負(fù)偏壓電源、循環(huán)水機(jī)組等。
產(chǎn)品名稱/型號(hào)	產(chǎn)品配置/技術(shù)參數(shù)性能
DH-900DZX 電弧/磁控濺射箱式鍍膜機(jī)	PVD 涂層技術(shù)不僅可提供炫耀的色彩涂層，還具有超硬度、耐磨損、耐腐蝕、抗劃痕和應(yīng)力碎裂，而且在日常磨損條件下可保持耀眼的光澤，是應(yīng)用于裝飾工業(yè)的主流技術(shù)。PVD 涂層技術(shù)包括電弧離子鍍、磁控濺射鍍（直流、脈沖、中頻和非平衡）以及復(fù)合鍍膜。可獲得顏色包括： 1. TiN（仿金色）； 2. ZrHfN、TiZrN（仿金色）； 3. TiC 、TiNC（亮灰色、槍黑色）； 4. TiNC、TiAlN（玫瑰金、咖啡色）； 5. TiO、 TiAlN（寶石蘭色、彩虹色）； 6. ZrN（黃銅色、鋯金色）； 7. ZrO（仿不銹鋼色）； 8. Ni、Cr、AL、Au、Ag（金、銀、鎳、鉻、鋁等單色金屬膜）。主要技術(shù)參數(shù) 1、真空腔室尺寸：Φ900×H1000mm；可鍍膜空間：Φ600×H700mm； 2、極限真空：5.0×10^-4Pa； 3、工件架：8根公自轉(zhuǎn)桿+4根公轉(zhuǎn)桿，公/自轉(zhuǎn)0-20RPM，可加熱烘烤至500℃； 4、矩形靶尺寸：650×150mm 矩形，非平衡磁控濺射靶，對(duì)靶結(jié)構(gòu)； 5、濺射電源：中頻脈沖恒流源，電壓可調(diào)。頻率 40KHz，功率 20KW； 6、弧源：φ100mm弧源； 7、電弧電源：250A 逆變弧電源，數(shù)量：六臺(tái)； 8、供電電源：三相AC380V，50Hz；整機(jī)功率30KW； 9、控制方式：PLC+PC自動(dòng)； 10、強(qiáng)制水冷保護(hù)系統(tǒng)。
DH-500ZZS 箱式電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)	本箱式電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)由我公司和材料物理重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室聯(lián)合研制。適用于制備導(dǎo)電薄膜，半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜，高性能薄膜研究及新材料科學(xué)研究工作。其主要特點(diǎn)為功能強(qiáng)、鍍膜質(zhì)量穩(wěn)定、重復(fù)性好、操作簡(jiǎn)便。主要技術(shù)參數(shù) 1、鍍膜室體積：500×500×600mm，特殊規(guī)格可定做； 2、極限真空：6.7×10^-5 Pa，恢復(fù)真空：從大氣抽至6.7×10^-4 Pa ≤（40分鐘）； 3、抽氣系統(tǒng)：直聯(lián)機(jī)械泵+復(fù)合分子泵組成；真空測(cè)量：復(fù)合數(shù)顯真空計(jì)； 4、蒸發(fā)源：電子束蒸發(fā)源：270°E型電子槍及高壓電源，電子槍功率0～6KW可調(diào)；電阻蒸發(fā)源：銅水冷電極4根，功率：3kW/10V兩組； 5、結(jié)構(gòu)形式：立式前開(kāi)門后置抽氣系統(tǒng)； 6、工件烘烤溫度：室溫～500℃可控可調(diào)（PID控溫）； 7、旋轉(zhuǎn)夾具：公轉(zhuǎn)或行星公自轉(zhuǎn)夾具。速度從 0r～30r/min 無(wú)級(jí)可調(diào)； 8、供電電源：三相AC380V，50Hz；整機(jī)功率22KW； 9、選配件：光學(xué)膜厚測(cè)量系統(tǒng)、石英晶振測(cè)厚儀、高壓離子轟擊、霍爾離子源、冷卻水機(jī)組等。