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詳細(xì)摘要： 倍增級磁控鍍膜機(jī)主要應(yīng)用于光電倍增管倍增級表面的銻膜鍍制。在膜層制備過程中可實現(xiàn)對光電倍增管的倍增級基底進(jìn)行烘烤除氣、離子轟擊清潔、膜層沉積和偏電壓輔助、膜厚工...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-12-23 在線留言
詳細(xì)摘要： 磁控濺射鍍膜機(jī)是應(yīng)用泛的PVD沉積設(shè)備，可用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系?？慑兏鞣N硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜和其他化學(xué)反應(yīng)膜，亦...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-12-22 在線留言
詳細(xì)摘要： 該設(shè)備可沉積單金屬、合金、及多種介質(zhì)膜，多層膜；主要用于Φ150-Φ500輪轂型金屬、非金屬零件表面沉積各類功能膜（耐磨、防腐、導(dǎo)電膜、絕緣膜等...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-12-21 在線留言
詳細(xì)摘要： 該設(shè)備用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積?？慑兏鞣N硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜，亦可鍍鐵磁材料。圖示鍍膜機(jī)為雙腔室，共用高真空系統(tǒng)...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-12-20 在線留言
詳細(xì)摘要： 該設(shè)備用于通過磁控濺射法沉積金屬薄膜、陶瓷膜、介質(zhì)膜等，用戶可以根據(jù)工藝的需要選擇單靶獨立工作、四靶輪流工作或四靶任意組合共濺等工作模式。該設(shè)備由主腔室和預(yù)備室...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-12-19 在線留言
詳細(xì)摘要： 該設(shè)備為高真空多用途電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī)，四對電極可單獨或同時蒸發(fā)不同的材料。設(shè)備為立式頂開蓋結(jié)構(gòu)，四對電極可單獨或共蒸發(fā)，樣品Φ300（max），樣品臺公自...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-12-18 在線留言
詳細(xì)摘要： 該設(shè)備在同一真空室內(nèi)具有熱蒸發(fā)和磁控濺射鍍膜功能，用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積；可鍍各種硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜，亦可鍍...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-12-17 在線留言
詳細(xì)摘要： 該設(shè)備可沉積金屬、合金、及多種介質(zhì)膜，可進(jìn)行反應(yīng)濺射；用于硬質(zhì)膜，裝飾膜及其它功能膜的研究開發(fā)。
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-12-16 在線留言
詳細(xì)摘要： 倍增級磁控鍍膜機(jī)主要應(yīng)用于光電倍增管倍增級表面的銻膜鍍制。在膜層制備過程中可實現(xiàn)對光電倍增管的倍增級基底進(jìn)行烘烤除氣、離子轟擊清潔、膜層沉積和偏電壓輔助、膜厚工...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-12-15 在線留言
詳細(xì)摘要： 本儀器主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導(dǎo)電膜（金膜），儀器操作簡單方便，是配合中小型掃描電子顯微鏡制樣的儀器。
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-11-26 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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