一、設(shè)備用途：　　這是一臺(tái)高真空單室有機(jī)/金屬熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，主要用于有機(jī)半導(dǎo)體材料的物理化學(xué)性能研究實(shí)驗(yàn)、有機(jī)半導(dǎo)體器件的原理研究實(shí)驗(yàn)?！　≡撛O(shè)備具有有機(jī)材料熱蒸發(fā)—沉積和金屬材料熱蒸發(fā)—沉積成膜功能。它是在高真空條件下，通過加熱材料的方法，在襯底上沉積各種化合物、混合物單層或多層膜，在襯底上沉積各種金屬或合金電極并形成器件?！　《?、設(shè)備主要技術(shù)特點(diǎn)：　　1、蒸發(fā)源組件石英復(fù)合組件，為電流控制方

詳細(xì)介紹

　　一、設(shè)備用途：

　　這是一臺(tái)高真空單室有機(jī)/金屬熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，主要用于有機(jī)半導(dǎo)體材料的物理化學(xué)性能研究實(shí)驗(yàn)、有機(jī)半導(dǎo)體器件的原理研究實(shí)驗(yàn)。

　　該設(shè)備具有有機(jī)材料熱蒸發(fā)—沉積和金屬材料熱蒸發(fā)—沉積成膜功能。它是在高真空條件下，通過加熱材料的方法，在襯底上沉積各種化合物、混合物單層或多層膜，在襯底上沉積各種金屬或合金電極并形成器件。

　　二、設(shè)備主要技術(shù)特點(diǎn)：

　　1、蒸發(fā)源組件石英復(fù)合組件，為電流控制方式，配有電壓表與電流表，3套蒸發(fā)源可實(shí)現(xiàn)2對(duì)共蒸， 2個(gè)金屬蒸發(fā)源(電極水冷)，配有2套電控系統(tǒng)，額定電壓5V，額定電流300A。

　　2、樣品尺寸100*100mm。

　　3、真空獲得為復(fù)合分子泵+機(jī)械泵，配有預(yù)抽真空系統(tǒng)，可在分子泵不停止的情況下實(shí)現(xiàn)換樣品，設(shè)備30分鐘以內(nèi)優(yōu)于2*10-3pa，極限壓力8*10-4pa。

　　4、密封刀口無氧銅金屬密封，其余用氟膠圈，真空管路用不銹鋼金屬波紋管路，采用超高真空閥門。

　　5、每個(gè)蒸發(fā)源配擋板，基片配擋板，保證鍍膜的可控性。

　　6、樣品旋轉(zhuǎn)可在0-30轉(zhuǎn)/分鐘調(diào)速及定位。

　　三、設(shè)備主要組成：

　　該設(shè)備由一臺(tái)有機(jī)/金屬真空蒸發(fā)鍍膜室、分子泵真空機(jī)組、樣品傳送裝置、電控系統(tǒng)、膜厚檢測(cè)、組成。

　　真空鍍膜室：1組有機(jī)蒸發(fā)源、2組金屬蒸發(fā)源、旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)、樣品擋板、真空獲得與測(cè)量、電源系統(tǒng)等組成。真空室為前開門式，便于取放樣品及換蒸發(fā)源，主機(jī)與機(jī)柜分體式便于維護(hù)，每組蒸發(fā)源之間有隔板隔離，避免相互污染。

　　四、工作條件及主要技術(shù)參數(shù)：

　　1、供電：～380V三相五線供電系統(tǒng)(整機(jī)容量6KW)，環(huán)境溫度10℃～40℃，冷卻水循環(huán)量0.3M3/H，水溫度15℃～30℃，氣源壓力6公斤，6毫米塑料管。

　　2、極限真空：8×10-4Pa(新設(shè)備);工作背景真空：2×10-3Pa;恢復(fù)工作背景真空時(shí)間30分鐘左右。

　　五、熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備配置參數(shù)：

　　(一)、真空室及組件1套。

　　1)、 450*450*500主真空室(包括：不銹鋼U型室及門法蘭1套、XF100觀察窗及接管1套、可裝電極及接管的底法蘭1套、CF150法蘭座及接管1套、CF63法蘭座及接管1套、CF35法蘭座及接管2套、旋轉(zhuǎn)及擋板法蘭座1套、KF16接口1件)。

　　2)、減速電機(jī)控制可旋轉(zhuǎn)、定位及調(diào)速樣品臺(tái)1套。

　　3)、外控樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)檔板1套。

　　4)、金屬及有機(jī)物蒸發(fā)源3套。(電極水冷)

　　5)、外控蒸發(fā)源擋板3套。(電動(dòng)磁力轉(zhuǎn)軸)

　　6)、帶腳輪、支腳、圍板機(jī)架1套。

　　(二)、真空獲得1套。