污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
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更新時(shí)間：2023-03-02 16:13:01瀏覽次數(shù)：230次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線FTZKDM-998真空鍍膜機(jī)參數(shù)真空鍍膜技術(shù)基片升溫低，沉積速率高為主要特點(diǎn)，該沉積工藝在電導(dǎo)膜、光學(xué)膜、保護(hù)膜、裝飾膜等諸多方面都有廣泛應(yīng)用
FTZKDM-998真空鍍膜機(jī)參數(shù)
真空鍍膜技術(shù)基片升溫低，沉積速率高為主要特點(diǎn)，該沉積工藝在電導(dǎo)膜、光學(xué)膜、保護(hù)膜、
裝飾膜等諸多方面都有廣泛應(yīng)用。本設(shè)備是集磁控濺射和弧源為一體較為*的生產(chǎn)設(shè)備，
可生產(chǎn)不同規(guī)格的金屬膜產(chǎn)品。
主要技術(shù)指標(biāo)
1. 整機(jī)外形尺寸：3200*1600*2438mm（長(zhǎng)x寬x高）
真空室外型尺寸：φ998x700mm（有冷水）
2.極限真空度：6.7x10-4Pa
3.恢復(fù)真空度：清潔空爐由大氣抽至6.7x10-3Pa≤30min
4.壓升率：1Pa/h（清潔空爐）
5功率:
磁控源電源功率:10KVA
弧電源功率:3KVA
6.矩形磁控靶材尺寸：384x131x12mm
7.弧源靶材尺寸：φ100x70mm
8.烘烤溫度：0~500℃
9.冷卻水：流量：20~35L/min
10.充氣系統(tǒng)：質(zhì)量流量計(jì) 3路顯示
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