污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任公司
會(huì)員1.png)
北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任公司
| 參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地
聯(lián)系方式：查看聯(lián)系方式
更新時(shí)間：2023-12-31 12:15:39瀏覽次數(shù)：195次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來自 環(huán)保在線設(shè)備配置： 一、手套箱 1.金屬薄膜沉積與器件封裝、檢測(cè)用手套箱1臺(tái)： 1.1箱體尺寸：雙工位手套箱，長(zhǎng)度約1800mm。箱體預(yù)留鍍膜機(jī)接口法蘭，手套箱后板可安裝一臺(tái)鍍膜機(jī)，手套箱內(nèi)具有安裝器件封裝與性能檢測(cè)裝置的空間?！ ?.2配置4只手套，可方便實(shí)現(xiàn)沉積室取送樣品，以及器件封裝與性能檢測(cè)等操作?！ ?.3配置≥2套KF40標(biāo)準(zhǔn)接口?！ ?.手套箱技術(shù)指標(biāo)與功能要求： 2.1箱體材料：不
設(shè)備配置：
一、手套箱
1.金屬薄膜沉積與器件封裝、檢測(cè)用手套箱1臺(tái)：
1.1 箱體尺寸：雙工位手套箱，長(zhǎng)度約1800 mm。箱體預(yù)留鍍膜機(jī)接口法蘭，手套箱后板可安裝一臺(tái)鍍膜機(jī)，手套箱內(nèi)具有安裝器件封裝與性能檢測(cè)裝置的空間。
1.2 配置4只手套，可方便實(shí)現(xiàn)沉積室取送樣品，以及器件封裝與性能檢測(cè)等操作。
1.3 配置≥ 2套KF40標(biāo)準(zhǔn)接口。
2.手套箱技術(shù)指標(biāo)與功能要求：
2.1箱體材料：不銹鋼箱體。
2.2箱體結(jié)構(gòu)：具有可拆卸的安全玻璃視窗;配雙層不銹鋼物架;帶有安全閥;
2.3密封性：視窗與箱體之間無泄漏，手套口與手套和視窗之間密封良好、耐用，無泄漏。
2.4泄露率：≤ 0.05vol%/h，泄漏率可檢測(cè);H2O < 1ppm，O2< 1ppm。
2.5 凈化效率：高凈化效率，再生間隔時(shí)間長(zhǎng)。
2.6 過渡倉：手套箱的箱體外側(cè)各另設(shè)置一個(gè)過渡艙，過渡倉尺寸≥ 150mm，長(zhǎng)度為300 mm。
2.7傳送及操作方式：過渡倉內(nèi)設(shè)置可滑動(dòng)托盤，樣品可通過移動(dòng)托盤傳送至手套箱內(nèi)，托盤易于拆卸;手動(dòng)操作。
2.8控制系統(tǒng)：用戶友好的中英文操作界面的觸屏。實(shí)現(xiàn)以下控制功能：工作壓力調(diào)節(jié)、箱內(nèi)氣體自動(dòng)清洗、箱內(nèi)氣氛自動(dòng)報(bào)警、顯示操作錯(cuò)誤提示、可手動(dòng)或自動(dòng)檢測(cè)泄漏率等。
2.9 其他附件：
(1)真空泵，氣體純化系統(tǒng)：氣體純化柱、循環(huán)風(fēng)機(jī)、有機(jī)溶劑吸附柱;
(2)水、氧分析儀：分析儀精度0.2 ppm或以上;分析儀輸出可直接連接到觸摸控制屏，可對(duì)氣體循環(huán)系統(tǒng)進(jìn)行自動(dòng)控制，實(shí)現(xiàn)自動(dòng)循環(huán);可設(shè)定報(bào)警值;
(3)箱內(nèi)電源接口：配多孔電源插座。
(4)手套箱總體功能要求：樣品送入大(或小)過渡倉后，可在高純氣氛或真空氣氛條件下實(shí)現(xiàn)有機(jī)薄膜沉積、金屬電極薄膜沉積、器件封裝及性能檢測(cè)等功能。
(5)手套箱驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)：使用99.999%惰性氣源，空箱運(yùn)轉(zhuǎn)，箱內(nèi)水氧含量均小于1ppm。
二、真空熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)系統(tǒng)
1. 技術(shù)要求：
1.1真空度: 極限真空< 2.5*10-5Pa，工作真空度< 8*10-4Pa，抽速：從大氣抽至10-4Pa用時(shí)應(yīng)≤ 30min;
1.2樣品架：
(1)可對(duì)樣品實(shí)施360度電動(dòng)旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速可在0 ~ 30轉(zhuǎn)/min內(nèi)連續(xù)調(diào)節(jié)。
(2)高度可調(diào)，蒸鍍距離在120-250mm范圍內(nèi)可調(diào)節(jié)。
1.3樣品尺寸：樣品基本尺寸為15×15mm/塊，可分別承裝如
下數(shù)量的樣品：
(1)3塊×3塊排列方式，可承裝9塊/次。
(2)4塊×4塊排列方式，可承裝16塊/次。
1.4各密封接口真空漏率≤ 5×10-9Torr?L/s(用進(jìn)口氦質(zhì)譜檢漏儀檢測(cè))。
1.5 膜厚控制設(shè)備：膜厚探頭2個(gè)，探測(cè)數(shù)據(jù)可同時(shí)顯示在膜厚儀上。
1.6 樣品臺(tái)(基片臺(tái))配備擋板，蒸發(fā)源配備可有效防止不同材料交叉污染的遮擋裝置。
2. 配置：
2.1 真空沉積腔體：具有觀察窗，手動(dòng)開門設(shè)置方便取樣和進(jìn)樣。
2.2鍍膜機(jī)與手套箱的連接方式： 要求鍍膜機(jī)位于手套箱外(背后)，蒸發(fā)室在手套箱內(nèi)有方形門，可實(shí)現(xiàn)樣品由手套箱內(nèi)直接傳進(jìn)蒸鍍室。要求蒸鍍室與箱體之間無泄漏，蒸鍍室口與手套箱接口密封良好、耐用，無泄漏。
2.3要求蒸發(fā)室在手套箱外另有一個(gè)門，手動(dòng)開門設(shè)置，便于清理和維修操作。
2.4 蒸發(fā)源4套：可蒸發(fā)金(Au)、 銀(Ag)、鉻(Cr)、鈦(Ti)、鋁(Al)、鉑(Pt)、氧化鉬(MoO3)和LiF等材料。蒸發(fā)源相關(guān)的其他要求如下：
(1)蒸發(fā)電極可加載蒸發(fā)舟或者鎢籃，配備標(biāo)準(zhǔn)鉬舟及鎢藍(lán)各10個(gè)。
(2)蒸發(fā)電源1套，可轉(zhuǎn)換供四套蒸發(fā)源使用，可在一次抽真空操作后實(shí)現(xiàn)4種材料的順次蒸鍍，既可連續(xù)蒸鍍4層不同材料。
2.5 真空獲得系統(tǒng)：預(yù)抽機(jī)械泵1個(gè)，分子泵1個(gè)以及相應(yīng)的附件，分子泵水冷系統(tǒng);分子泵與沉積室之間具備閉鎖條件。
2.6升降樣品架。
2.7真空測(cè)量系統(tǒng)。
2.8膜厚測(cè)試系統(tǒng)。
2.9工作臺(tái)：含真空計(jì)，蒸發(fā)源電源和相應(yīng)控制系統(tǒng)，加熱源控制系統(tǒng)，膜厚測(cè)量系統(tǒng)，總電源控制區(qū)。
您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
環(huán)保在線 設(shè)計(jì)制作，未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請(qǐng)輸入賬號(hào)
請(qǐng)輸入密碼
請(qǐng)輸驗(yàn)證碼
