此款全自動磁控濺射鍍膜機具備以下幾個優(yōu)點：　　1、目前高校包括研究所的實驗室面積都比較緊張，所以此款小型磁控濺射鍍膜機緊湊的設計更為合適;　　2、配置3個3英寸可調(diào)節(jié)高度及角度的電控擋板磁控濺射靶(可選擇高磁靶可鍍鐵、鎳等磁性材料);　　3、配置1個4英寸可旋轉(zhuǎn)、可加熱、可加裝偏壓電源的樣品臺;　　4、配置離子活化裝置;　　5、配置內(nèi)隔板便于清理和帶擋板的觀察窗;　　6、配置腔室烘烤加熱裝置;

詳細介紹

　　此款全自動磁控濺射鍍膜機具備以下幾個優(yōu)點：

　　1、目前高校包括研究所的實驗室面積都比較緊張，所以此款小型磁控濺射鍍膜機緊湊的設計更為合適;

　　2、配置3個3英寸可調(diào)節(jié)高度及角度的電控擋板磁控濺射靶(可選擇高磁靶可鍍鐵、鎳等磁性材料);

　　3、配置1個4英寸可旋轉(zhuǎn)、可加熱、可加裝偏壓電源的樣品臺;

　　4、配置離子活化裝置;

　　5、配置內(nèi)隔板便于清理和帶擋板的觀察窗;

　　6、配置腔室烘烤加熱裝置;

　　7、配置高真空獲得及測量裝置;

　　8、配置膜厚實時監(jiān)控測量裝置;

　　9、配置3路質(zhì)量流量計充氣系統(tǒng)。

　　1.設備簡介

　　小型磁控濺射鍍膜儀，主要特點是設備體積小，結(jié)構簡單緊湊易于操作，對實驗室供電要求低;該系列設備主要部件采用進口或者國內(nèi)的配置，從而提高設備的穩(wěn)定性;另外自主開發(fā)的智能操作系統(tǒng)在設備的運行重復性及安全性方面得到更好地保障。目前該系列有基本型、旗艦型、豪華型、尊享型4種不同配置可供選擇，可以根據(jù)客戶的不同需求進行配置，比較靈活;標配2只Φ2英寸永磁靶，一臺500W直流濺射電源，主要用來開發(fā)納米級單層及多層的金屬導電膜、半導體膜以及絕緣膜等。

　　2.設備主要優(yōu)勢

　　2.1實用性：設備集成度高，結(jié)構緊湊，占地面積小，可以滿足客戶實驗室空間不足的苛刻條件;通過更換設備上下法蘭可以實現(xiàn)磁控與蒸發(fā)功能的轉(zhuǎn)換，實現(xiàn)一機多用;

　　2.2方便性：設備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接線及安裝調(diào)試簡單，既保證了設備使用方便又保證了設備的整潔;

　　2.3高性價比：設備主要零部件采用進口或國內(nèi)品牌，以國產(chǎn)設備的價格擁有進口設備的配置，從而保證了設備的質(zhì)量及性能;

　　2.4安全性：獨立開發(fā)的PLC+觸摸屏智能操作系統(tǒng)在傳統(tǒng)操作系統(tǒng)的基礎上新具備了漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養(yǎng)維護提示等功能，保證了設備的使用安全性能;

　　3.主要技術參數(shù)

　　3.1 腔室尺寸：Ф246×228mm，1Cr18Ni9Ti優(yōu)質(zhì)不銹鋼材質(zhì)，氬弧焊接;

　　3.2 樣品臺尺寸：Ф75mm，高度：60～120mm可調(diào)，旋轉(zhuǎn)：0-20r/min可調(diào);

　　3.3 真空系統(tǒng)：機械泵(TRP-12,3L/s)+國產(chǎn)分子泵(可選進口分子泵);GDC-25b電磁擋板閥，DN25mm 限流閥;

　　3.4 極限真空：8.0×10-4Pa;

　　3.5 真空抽速：大氣～8×10-4Pa ≤ 60min;

　　3.6 真空測量：全量程復合真空計，測量范圍：105Pa～10-5Pa;