1.設備簡介　　該設備是一款小型磁控濺射鍍膜儀，主要特點是設備體積小，結(jié)構簡單緊湊易于操作，對實驗室供電要求低;該系列設備主要部件采用進口或者國內(nèi)的配置，從而提高設備的穩(wěn)定性;另外自主開發(fā)的智能操作系統(tǒng)在設備的運行重復性及安全性方面得到更好地保障?！　≡撛O備標配2只Φ2英寸永磁靶，一臺500W直流濺射電源(用于濺射金屬導電材料)，1臺300W全自動匹配射頻濺射電源(用于濺射絕緣材料)，主要用來

詳細介紹

　　1.設備簡介

　　該設備是一款小型磁控濺射鍍膜儀，主要特點是設備體積小，結(jié)構簡單緊湊易于操作，對實驗室供電要求低;該系列設備主要部件采用進口或者國內(nèi)的配置，從而提高設備的穩(wěn)定性;另外自主開發(fā)的智能操作系統(tǒng)在設備的運行重復性及安全性方面得到更好地保障。

　　該設備標配2只Φ2英寸永磁靶，一臺500W直流濺射電源(用于濺射金屬導電材料)，1臺300W全自動匹配射頻濺射電源(用于濺射絕緣材料)，主要用來開發(fā)納米級單層及多層的金屬導電膜、半導體膜以及絕緣膜等。

　　2.主要技術參數(shù)

　　2.1 腔室尺寸：Ф246×228mm，1Cr18Ni9Ti優(yōu)質(zhì)不銹鋼材質(zhì)，氬弧焊接;

　　2.2 樣品臺尺寸：Ф75mm，高度：60～120mm可調(diào)，旋轉(zhuǎn)：0-20r/min可調(diào);可加熱至600℃;

　　2.3 真空系統(tǒng)：機械泵(TRP-12,3L/S)+脂潤滑分子泵(FF-63/80,70L/s);GDC-25b電磁擋板閥，DN63mm 限流閥;

　　2.4 極限真空：8.0×10-5Pa;

　　2.5 真空抽速：大氣～8×10-4Pa ≤ 20min;

　　2.6 真空測量：全量程復合真空計，測量范圍：105Pa～10-5Pa;

　　2.7 磁控靶：Φ2英寸2只(含靶擋板)，兼容直流電源和射頻電源;

　　2.8 濺射電源：1臺500W直流濺射電源和1臺300W全自動匹配射頻電源;

　　2.9 質(zhì)量流量計：進口20sccm、50sccm質(zhì)量流量控制器各一套;

　　2.10控制方式：PLC+觸摸屏智能控制系統(tǒng)，具備漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養(yǎng)維護提示等功能;

　　2.11設備外形：L60cm×W60cm×H96cm機電一體化機架，預留1個KF40及1個CF35法蘭接口;

　　2.12 設備供電總功率≤2KW，220V，單相三線制(一火一零一地);

　　2.13 冷卻循環(huán)系統(tǒng)：水壓0.2～0.4MPa，水溫10～25℃，給設備相關需水冷部件提供穩(wěn)定的制冷水;

　　3.設備主要配置表

真空腔室	Ф246×228mm，1Cr18Ni9Ti優(yōu)質(zhì)不銹鋼
分子泵	脂潤滑分子泵(FF-63/80,70L/s)
前級泵	機械泵，北儀優(yōu)成
真空規(guī)	全量程真空規(guī)，成都睿寶
濺射靶	Ф2英寸永磁靶2支（含靶擋板），維意真空
濺射電源	500W直流濺射電源1臺，300W全自動匹配射頻電源1臺
流量計	20sccm/50sccm進口Line Tech
控制系統(tǒng)	PLC+觸摸屏智能控制系統(tǒng)1套，維意真空
冷水機	LX-300，維意真空
前級閥	GDC-25b電磁擋板閥1套，維意真空
旁路閥	GDC-25b電磁擋板閥1套，維意真空
限流閥	DN63mm一套，維意真空
充氣閥	Φ6mm，電磁截止閥1套，七星華創(chuàng)
放氣閥	Φ6mm，電磁截止閥1套，七星華創(chuàng)
基片臺	Ф75mm，高度：60～120mm可調(diào)，旋轉(zhuǎn)：0-20r/min可調(diào)，可加熱至600℃，維意真空
真空管路	波紋管、真空管道等1套，維意真空
設備機架	機電一體化，維意真空
預留接口	CF35法蘭一個，維意真空
備件	CF35銅墊圈及氟密封圈全套等，維意真空