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更新時(shí)間：2024-04-27 07:12:34瀏覽次數(shù)：209次
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EVG 101是一款適合于研發(fā)的單腔晶圓涂膠顯影設(shè)備，可用于噴膠、旋涂和顯影，可在三維結(jié)構(gòu)晶圓上完成光刻膠或聚合物的涂覆，并保持高均勻性。
主要特點(diǎn)及參數(shù)：
·可適用于12寸（300mm）晶圓
·手動(dòng)裝片，自動(dòng)噴涂/旋涂，自動(dòng)清洗腔室內(nèi)殘膠
·適用光刻膠范圍廣泛，粘度可達(dá)52000cp
·基片轉(zhuǎn)速：10000r/min
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EVG 620BA對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
EVG 620BA是一款半自動(dòng)研發(fā)型鍵合對(duì)準(zhǔn)設(shè)備，采用雙面光學(xué)對(duì)準(zhǔn)，擁 |
EVG 6200BA對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
EVG 6200BA是一款自動(dòng)量產(chǎn)型鍵合對(duì)準(zhǔn)設(shè)備，采用雙面光學(xué)對(duì)準(zhǔn)，擁請(qǐng)輸入賬號(hào)
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