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日立高新技術（上海）國際貿(mào)易有限公司北京分公司
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| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號
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更新時間：2023-09-01 20:05:30瀏覽次數(shù)：201次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線IM4000PLUS是支持斷面研磨和平面研磨（Flat Milling*1）的混合式離子研磨儀器。借此，可以用于適用于各種諸如對樣品內(nèi)部結構觀察和各類分析等，為評價目的樣品的制作。*1平面研磨（Flat Milling）是位于日本國內(nèi)的日立有限公司的注冊商標。
IM4000PLUS是支持斷面研磨和平面研磨（Flat Milling®*1）的混合式離子研磨儀器。借此，可以用于適用于各種諸如對樣品內(nèi)部結構觀察和各類分析等，為評價目的樣品的制作。
配備斷面研磨能力達到500 µm/h*2以上的高效率離子槍。因此，即使是硬質(zhì)材料，也可以高效地制備出斷面樣品。
斷面研磨加工原理圖
平面研磨（Flat Milling®）加工原理圖
附冷卻溫度調(diào)節(jié)功能的IM4000PLUS
該功能可有效防止加工過程中，由于離子束照射引發(fā)的樣品的溫度上升，所導致樣品的溶解和變形。對于過度冷卻后會產(chǎn)生開裂的樣品，通過冷卻溫度調(diào)節(jié)功能可防止其因過度冷卻而產(chǎn)生開裂。
常溫研磨
冷卻研磨
大氣隔離樣品桿，可讓樣品在不接觸空氣的狀態(tài)下進行研磨。
密封蓋將樣品密閉，進入真空排氣的樣品室后，打開密封蓋。如此，離子研磨加工后的樣品可以在不接觸空氣的狀態(tài)下直接設置到SEM*1、FIB*1、AFM*2上。
大氣暴露
大氣隔離
IM4000、IM4000PLUS通過設置在樣品室上方的立體顯微鏡，可觀察到研磨過程中的樣品。
如果是三目型，則可以通過CCD攝像頭*3進行監(jiān)控觀察。
| 項目 | 內(nèi)容 | |
|---|---|---|
| IM4000PLUS | IM4000PLUS | |
| 斷面研磨桿 | 平面研磨桿 | |
| 使用氣體 | Ar（氬）氣 | |
| 加速電壓 | 0 ～ 6 kV | |
| 研磨速度（Si材料） | 500 µm/hr*1 以上 | - |
| 樣品尺寸 | 20（W）× 12（D）× 7（H）mm | Φ50 × 25（H） mm |
| 離子束 間歇照射功能 | 標配 | |
| 尺寸 | 616（W）× 705（D）× 312（H）mm | |
| 重量 | 機體48 kg＋回轉(zhuǎn)泵28 kg | |
| 附冷卻溫度調(diào)節(jié)功能的IM4000PLUS | ||
| 冷卻溫度調(diào)節(jié)功能 | 通過液氮間接冷卻樣品、溫度設定范圍：0°C ～ －100°C | |
| 選項 | ||
| 空氣隔離 樣品夾持器 | 僅支持斷面研磨夾持器 | - |
| FP版斷面研磨夾持器 | 100 µm/rotate*2 | - |
| 用于加工監(jiān)控的顯微鏡 | 倍率 15 × ～ 100 × 雙目型、三目型（支持CCD） | |
如果是大約500 µm的角型的陶瓷電容器，則可以3小時內(nèi)制備出平滑的斷面。
低倍圖像
放大圖像
即使硬度和成分不同的多層結構材料，也可以制備斷面。
低倍圖像
放大圖像
這是通過鋰電池正極材料，斷面研磨獲得平滑截面的應用實例。
在SEM上觀察到的具有特殊對比度的部位，從SSRM（Scanning Spread Resistance Microscopy）圖像來看，考慮為電阻低的部位。
可以去除機械研磨所引起的研磨損傷和塌邊，并可觀察到金屬層、合金層和無鉛焊料的Ag分布。
機械研磨后
平面研磨后
因老化等變得臟污的觀察面、分析面，通過平面研磨，也可以獲得清晰的通道對比度圖像和EBSD模式。
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