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離子研磨儀 ArBlade 5000

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更新時(shí)間：2023-08-31 19:39:37瀏覽次數(shù)：193次

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日立高新技術(shù)（上海）國(guó)際貿(mào)易有限公司北京分公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

ArBlade 5000是日立離子研磨儀的高性能機(jī)型。它實(shí)現(xiàn)了超高速截面研磨。高效率截面加工功能，使電鏡截面觀察時(shí)樣品加工更簡(jiǎn)單。

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離子研磨儀 ArBlade 5000

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離子研磨儀 ArBlade 5000

ArBlade 5000是日立離子研磨儀的高性能機(jī)型。
它實(shí)現(xiàn)了超高速截面研磨。
高效率截面加工功能，使電鏡截面觀察時(shí)樣品加工更簡(jiǎn)單。

特點(diǎn)
規(guī)格

特點(diǎn)

截面研磨速率高達(dá)1 mm/h^*1！

新研發(fā)的PLUSII離子槍發(fā)射出高電流密度離子束，大幅提高^*2了研磨速率。

*1: Si突出遮擋板邊緣100 µm，1個(gè)小時(shí)加工深度
*2: 研磨速率是本公司產(chǎn)品(IM4000PLUS:2014生產(chǎn))的2倍

截面研磨結(jié)果對(duì)比
(樣品：自動(dòng)鉛筆芯、研磨時(shí)間：1.5小時(shí))

本公司產(chǎn)品IM4000PLUS

ArBlade 5000

截面研磨寬度可達(dá)8 mm！

使用廣域截面研磨樣品座，加工寬度可達(dá)8 mm，十分適用于電子元件等的研磨。

復(fù)合型研磨儀

IM4000系列復(fù)合型(截面研磨、平面研磨)離子研磨儀。
可根據(jù)需求對(duì)樣品進(jìn)行前處理。

截面研磨

切割或機(jī)械研磨難以處理好的軟材料或復(fù)合材料的截面制作

平面研磨

機(jī)械研磨后樣品的精修或表面清潔

截面研磨加工示意圖

平面研磨加工示意圖

規(guī)格

規(guī)格
通用
使用氣體	Ar(氬)氣
加速電壓	0～8 kV
截面研磨
研磨速率(材料Si)	1 mm/hr^1以上含 1 mm/hr^1
研磨寬度	8 mm^*2
樣品尺寸	20(W) × 12(D) × 7(H) mm
樣品移動(dòng)范圍	X ±7 mm、Y 0~+3 mm
離子束間歇加工功能	標(biāo)準(zhǔn)配置
擺動(dòng)角度	±15°、±30°、±40°
平面研磨
加工范圍	φ32 mm
樣品尺寸	φ50 × 25(H) mm
樣品移動(dòng)范圍	X 0～+5 mm
離子束間歇加工功能	標(biāo)準(zhǔn)配置
旋轉(zhuǎn)速度	1 r/m、25 r/m
傾斜角度	0～90°

*1: Si突出遮擋板邊緣100 µm，1個(gè)小時(shí)加工深度
*2: 使用廣域截面研磨樣品座時(shí)

選配

規(guī)格
項(xiàng)目	內(nèi)容
高耐磨遮擋板	耐磨遮擋板是標(biāo)準(zhǔn)遮擋板的2倍左右(不含鈷)
加工監(jiān)測(cè)用顯微鏡	放大倍率 15×～100× 雙目型、三目型(可加裝CCD)