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湖南艾科威半導(dǎo)體裝備有限公司


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磁控濺射鍍膜機

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更新時間：2023-06-30 18:34:00瀏覽次數(shù)：390次

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商鋪產(chǎn)品：3條

所在地區(qū)：

聯(lián)系人：李經(jīng)理

產(chǎn)品簡介

磁控濺射設(shè)備是一種多功能、高效率的鍍膜設(shè)備?？梢栽谔沾?、玻璃、石英、硅片等基底材料上濺鍍金屬、非金屬、氧化物、介質(zhì)等材料的薄膜,如:Au、Al、NiCr、TiW、Si、Al2O3、Si3N4、ZnO、ITO等。濺鍍膜層均勻、致密、附著力強，可應(yīng)用到新型電子材料制備及光學(xué)、太陽能、半導(dǎo)體等領(lǐng)域。

詳細介紹

磁控濺射系統(tǒng)
設(shè)備特點：
●具有多個濺射靶，可沉積單層、多層薄膜、合金薄膜和摻雜薄膜；
●濺射方式：自下而上濺射、自上而下濺射可選；
●基片臺可加熱，可制備單晶薄膜；
●可選配輔助清洗離子源，有效提高薄膜的附著力；
技術(shù)指標(biāo)
●靶材數(shù)量：2-4個
●基片尺寸：2-8英寸
●基片臺轉(zhuǎn)速：5-30rpm，轉(zhuǎn)速連續(xù)可調(diào)
 
In-line磁控濺射系統(tǒng)
設(shè)備特點
●臥室雙腔結(jié)構(gòu)，工件盤在上料室裝片，在濺射室進行掃描運動濺射成膜；
●上料室預(yù)抽真空，保證濺射室良好的真空環(huán)境，實現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn)；
●配置基片烘烤、清洗功能；
●用戶具有多級操作權(quán)限，具備一鍵式全自動工藝運行，歷史數(shù)據(jù)可查詢。
●靶材利用率高
技術(shù)指標(biāo)
●基片尺寸： 400mm × 400mm 
●工件盤掃描速度：50mm/s ～ 200mm/s ，連續(xù)可調(diào)
 
應(yīng)用范圍
　　在平面基片表面鍍制各種金屬、非金屬、化合物等薄膜材料。如Al、Cu、Au、Pt、Ti、Ni、W、NiCr、TiW、SiO2、Al2O3、TiO2、ZnO、TaN、ITO等薄膜。
 

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