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等離子清洗射頻清洗機(jī) 光刻膠清洗

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更新時間：2024-04-23 16:02:18瀏覽次數(shù)：169次

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鄭州科探儀器設(shè)備有限公司

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產(chǎn)品簡介

簡要描述：等離子清洗射頻清洗機(jī) 光刻膠清洗鄭州科探屬于13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設(shè)備，主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學(xué)實(shí)驗(yàn)等。

詳細(xì)介紹

一、產(chǎn)品應(yīng)用原理：
（1）等離子清洗射頻清洗機(jī) 光刻膠清洗屬于13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設(shè)備，主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學(xué)實(shí)驗(yàn)等。

（2）該清洗機(jī)內(nèi)置不高純石英倉體，容積為2升，結(jié)構(gòu)為上的通用結(jié)構(gòu)。采用了新型的外觀結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和固態(tài)電源技術(shù)，使其有效容積增大，不同真空氣體環(huán)境下容易匹配，且控制頻率穩(wěn)定。真空倉門有觀察窗，可直觀物體的處理過程，其射頻電源與控制都組裝在一個機(jī)箱內(nèi)，即減少了空間的占用，更便于操作和放置，同時與大型清洗機(jī)相比較，從檢測功能與控制功能的設(shè)置上均可一個面板上操作，特別適用科學(xué)實(shí)驗(yàn)樣品清洗和教學(xué)。

（3）KT-S2DQX型等離子清洗機(jī)電源屬于150W13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設(shè)備，主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學(xué)實(shí)驗(yàn)等。

二、作用過程：
（1）該低溫表面等離子清洗射頻清洗機(jī) 光刻膠清洗內(nèi)置高純石英倉體，容積為2升。采用了新型的外觀結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和固態(tài)電源技術(shù)，使其有效容積增大，不同真空氣體環(huán)境下容易匹配，且控制頻率穩(wěn)定。
（2）真空倉門有觀察窗，可直觀物體的處理過程，其射頻電源與控制都組裝在一個機(jī)箱內(nèi)，即減少了空間的占用，更便于操作和放置，同時與大型清洗機(jī)相比較，從檢測功能與控制功能的設(shè)置上均可一個面板上操作，特別適用科學(xué)實(shí)驗(yàn)樣品清洗和教學(xué)。

供電電源	AC220V（AC110V可選)
工作電流	整機(jī)工作電流不大于3.5A(不含真空泵)
射頻電源功率	150W
射頻頻率	13.56MHz
頻率偏移量	＜0.2MHz
特性阻抗	50歐姆，手動匹配
耦合方式	感應(yīng)耦合式（線圈耦合）
真空度	≤100Pa
腔體材質(zhì)	高純石英
腔體容積	2L(內(nèi)徑110MMX深度220MM)
觀察窗內(nèi)徑	Φ70
氣體流量	10—600ml/min（其他量程可選）
過程控制	過程手動控制
清洗時間	手動開關(guān)
開蓋方式	鉸鏈側(cè)開式法蘭
外形尺寸	400x380x360mm
重量	23Kg
真空室溫度	小于65°C
冷卻方式	強(qiáng)制風(fēng)冷
標(biāo)配	KF16波紋管1米，kf16卡箍2個，電源線一根，說明書一本。