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所 在 地天津市
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更新時間:2025-01-26 08:30:46瀏覽次數(shù):158次
聯(lián)系我時,請告知來自 環(huán)保在線隨著納米科學(xué)的發(fā)展,電子探針分析變得越來越具有挑戰(zhàn)性:電子束能量降低,反應(yīng)氣體使用的增加,保持高分辨率越來越依賴于保持低碳污染狀態(tài)和低HC污染水平
隨著納米科學(xué)的發(fā)展,電子探針分析變得越來越具有挑戰(zhàn)性:電子束能量降低,反應(yīng)氣體使用的增加,保持高分辨率越來越依賴于保持低碳污染狀態(tài)和低HC污染水平。 順流等離子工藝可以快速、方便地消除碳?xì)浠衔锏奈廴静⑦M行樣品清洗。 與傳統(tǒng)的“等離子清洗器"中的動能清洗不同,順流等離子清洗過程是一個溫和的化學(xué)過程(無動力沖擊)。 這一過程地改變了清除真空腔中碳和碳?xì)浠廴镜姆椒ā?br style="box-sizing:border-box;">
該工藝可高效地清潔大容積腔室和嚴(yán)重污染的表面。 GV10x 等離子清洗器只需1/10的時間即可清潔鏡腔,因為它會使空氣產(chǎn)生更高濃度的氫離子和氧離子,從而達到去污目的,其效果更為溫和。. 客戶說“……使用GV10x,我們可以在1/10的時間內(nèi)實現(xiàn)高效的清潔,比起傳統(tǒng)方式,我們可在大面積鏡腔里更均勻地控制碳?xì)浠衔锏奈廴尽?
與使用冷凝捕集器、氮氣吹塵和其他等離子清潔器去污染的傳統(tǒng)方法相比,GV10x等離子清洗器清除碳污染的能力得到了重大的改善。 GV10x具有更大的功率和壓力范圍(5到100瓦,2到<0.005 Torr),代表了SEM和其他分析儀器(包括Mas-Spec、XPS等)中碳和碳?xì)浠衔锟刂七_到了典范式的轉(zhuǎn)變。
原子氧和氫將表面碳轉(zhuǎn)化為氣態(tài)分子,不再像傳統(tǒng)的方式那樣只將其固化或吸附,而是將氣態(tài)分子從鏡腔中抽出,從而達到去污效果。 聚合沉積物等人工樣品可在>5分鐘的循環(huán)中被掃除掉。 由于不頻繁的清洗周期,QWK™的配置結(jié)構(gòu)允許GV10x 等離子清洗器可以在多個EM工具中保持較低的HC水平。
集團提供了可驅(qū)動和操作GV10x等離子體源的控制器。 實驗室用戶可依需求選擇BT控制器或2U控制器。
從Windows軟件或觸摸屏,操作員可以:在運行期間進行設(shè)置和監(jiān)控,可將功率從10瓦更改為99瓦。 從等離子源調(diào)整進氣量可選擇2 Torr <<5 mTorr的壓力范圍。GV10x寬壓力范圍允許在TMP速度下清除碳?xì)湮廴?,而無需中斷TMP系統(tǒng)的軟件控制。 GV10x寬壓力范圍允許在TMP速度下清除碳?xì)湮廴荆鵁o需中斷TMP系統(tǒng)的軟件控制。
電感耦合等離子體源
提供KF40、ConFlat和Qwk-Switch™附件
Qwk-Switch™快速接頭– 實現(xiàn)儀器之間的無縫轉(zhuǎn)換
通過觸摸屏或Windows系統(tǒng)進行操作
明亮靈敏的觸摸屏
可調(diào)射頻功率:5-100瓦
可調(diào)清洗時間,配置循環(huán)進度條
密碼保護設(shè)置
垂直于地面的更小的占地面積(2U控制器)
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