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等離子體清洗機(jī)去除晶圓表面光刻膠
等離子體清洗機(jī)在處理晶圓表面光刻膠時(shí)，等離子表面清洗能夠去除表面光刻膠和其余有機(jī)物，也可以通過等離子活化和粗化作用，對(duì)晶圓表面進(jìn)行處理，能有效提高其表面浸潤(rùn)性。相比于傳統(tǒng)的濕式化學(xué)方法，等離子體清洗機(jī)干式處理的可控性更強(qiáng)，一致性更好，并且對(duì)基體沒有損害。
等離子清洗機(jī)表面處理機(jī)應(yīng)用包括處理、灰化、改性、蝕刻等過程。選擇等離子清洗設(shè)備，不僅能*除去光刻膠和其他有機(jī)物，而且能激活晶圓表面，提高晶圓表面的潤(rùn)濕性。聚合物、包括形狀不一的槽孔和狹長(zhǎng)的孔洞內(nèi)的微粒，使用等離子清洗機(jī)可以輕而易舉清洗掉
