主要配置：
6“，8”光源系統(tǒng)
可支持2“，3”，4“，6”，8“（圓/方片）及碎片光刻
手動系統(tǒng)，半自動系統(tǒng)
支持電源350-2000 Watt
支持深紫外近紫外波長（可選項）
支持背后對準及MEMS工藝要求
CCD或顯微鏡對準系統(tǒng)
主要性能指標：
光強均勻性Beam Uniformity:：
--<±1% over 2” 區(qū)域
--<±2% over 4” 區(qū)域
--<±3% over 6” 區(qū)域
接觸式樣曝光特征尺寸CD(近紫外NUV）：0.5 um
接觸式樣曝光特征尺寸CD（深紫外DUV）：0.35 um
支持接近式曝光，特征尺寸CD：
--0.8um 硬接觸
--1um 20um 間距時
--2um 50um 間距時
正面對準精度 ± 0.5um
背面對準精度±1um--±2um（Depends on user）
支持正膠、負膠及Su8膠等的厚膠光刻，特征尺寸：100um-300um
支持LED優(yōu)異電流控制技術PSS工藝光刻
支持真空、接近式、接觸式曝光
支持恒定光強或恒定功率模式
美國ABM 紫外光刻機
| 參考價 | ￥200-￥280/件 |
具體成交價以合同協(xié)議為準
- 公司名稱北京中科復華科技有限公司
- 品 牌其他品牌
- 型 號ABM/6/350/
- 所 在 地北京市
- 廠商性質生產(chǎn)廠家
- 更新時間2025/5/22 9:02:26
- 訪問次數(shù)702
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北京中科復華科技有限公司是一家致力于為半導體領域和微納米科學領域提供綜合性解決方案，為全國各大高校、科研院所及企事業(yè)單位提供的半導體設備儀器和微納米科學儀器，擁有一支經(jīng)驗豐富、技術過硬的技術團隊。能夠出色地完成售前、售中、售后的服務。未來公司將不斷和引進在微納米科學領域中起重要作用的新儀器和新產(chǎn)品，同時也與全國各所的大學、學院和科研院所建立了良好的合作關系，致力于把具有市場前景的科研成果推向市場。愿與中、外同仁廣泛合作， 為中國的教育與科研事業(yè)在廣范圍、高層次上提供服務。
電子束曝光系統(tǒng)，刻蝕設備，鍍膜設備，光刻機，半導體工藝設備
| 產(chǎn)地 | 國產(chǎn) |
|---|
美國ABM 紫外光刻機 產(chǎn)品信息
關鍵詞：顯微鏡
