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德國SENTECH 化學(xué)氣相沉積（預(yù)真空室）

參考價	￥ 10
訂貨量	≥1件

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱北京中科復(fù)華科技有限公司
品牌其他品牌
型號SI 500 PPD
所在地北京市
廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
更新時間2025/5/16 8:34:46
訪問次數(shù)99

產(chǎn)品標(biāo)簽:

化學(xué)氣相沉積 PECVD

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公司介紹主營產(chǎn)品

北京中科復(fù)華科技有限公司是一家致力于為半導(dǎo)體領(lǐng)域和微納米科學(xué)領(lǐng)域提供綜合性解決方案，為全國各大高校、科研院所及企事業(yè)單位提供的半導(dǎo)體設(shè)備儀器和微納米科學(xué)儀器，擁有一支經(jīng)驗豐富、技術(shù)過硬的技術(shù)團(tuán)隊。能夠出色地完成售前、售中、售后的服務(wù)。未來公司將不斷和引進(jìn)在微納米科學(xué)領(lǐng)域中起重要作用的新儀器和新產(chǎn)品，同時也與全國各所的大學(xué)、學(xué)院和科研院所建立了良好的合作關(guān)系，致力于把具有市場前景的科研成果推向市場。愿與中、外同仁廣泛合作，為中國的教育與科研事業(yè)在廣范圍、高層次上提供服務(wù)。

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電子束曝光系統(tǒng)，刻蝕設(shè)備，鍍膜設(shè)備，光刻機(jī)，半導(dǎo)體工藝設(shè)備

產(chǎn)品簡介在線詢價

產(chǎn)地	進(jìn)口	儀器種類	等離子體表面處理儀

SI 500 PPD是電容平板式PECVD等離子沉積設(shè)備，主要用于SiO2，SiOxNy，SiNy，a-Si，SiC薄膜的沉積。適用于2“--8“ 樣片的薄膜沉積。

德國SENTECH 化學(xué)氣相沉積（預(yù)真空室）產(chǎn)品信息

工藝靈活性

PECVD沉積設(shè)備SI 500 PPD便于在從室溫到350℃的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行SiO2、SiNx、SiOxNy和a-Si的標(biāo)準(zhǔn)的化學(xué)氣相沉積工藝。

預(yù)真空室

SI 500 PPD的特色是預(yù)真空室和干泵裝置，用于無油、高產(chǎn)量和潔凈的化學(xué)氣相沉積過程。

SENTECH控制軟件

強(qiáng)大的用戶界面友好軟件包括模擬圖形用戶界面，參數(shù)窗口，工藝處方編輯窗口，數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。

SI 500 PPD代表了的等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備，用于介質(zhì)膜、非晶硅、碳化硅和其他材料的沉積。它基于平板電容耦合等離子體源，預(yù)真空室，溫控襯底電極，可選的低頻射頻源、全自動控制的無油真空系統(tǒng)、的SENTECH控制軟件，采用遠(yuǎn)程現(xiàn)場總線技術(shù)，以及用戶友好的通用界面來操作SI 500 PPD。

SI 500 PPD等離子沉積設(shè)備，可以加工從大到200毫米直徑的晶片到裝載在載片器上的零件。單晶片預(yù)真空室保證穩(wěn)定的工藝條件，并實現(xiàn)簡易切換的過程。

SI 500 PPD等離子增強(qiáng)沉積設(shè)備用于在從室溫到350℃的溫度范圍內(nèi)沉積SiO2、SiNx、SiONx和a-Si薄膜。通過液態(tài)或氣態(tài)前驅(qū)體，SI 500 PPD可以為TEOS, SiC和其它材料的沉積提供解決方案。SI 500 PPD特別適用于化學(xué)氣相沉積用于刻蝕掩膜，鈍化膜，波導(dǎo)及其他的介質(zhì)膜和非晶硅。

SENTECH提供不同級別的自動化程度，從真空片盒載片到一個工藝腔室或至多六個工藝模塊端口，可用于不同的蝕刻和沉積工藝模塊組成多腔系統(tǒng)，目標(biāo)是高靈活性或高產(chǎn)量。SI 500 PPD也可用作多腔沉積系統(tǒng)中的一個工藝模塊。

SI 500 PPD: