離子濺射儀NE-900依據(jù)二極(DC)直流濺射原理。濺射電流調(diào)整控制器、微型真空氣閥在工作時(shí)結(jié)合內(nèi)部自 動(dòng)控制電路控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體。根據(jù)電場(chǎng)中氣體電離特性，采用大容量樣品濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶，使濺射鍍層均勻純凈。
產(chǎn)品參數(shù)：
| 型號(hào) | 離子濺射儀NE-900 |
| 主機(jī)規(guī)格 | 300mm×360mm×380mm（W×D×H） |
| 靶（上部電極） | 50mm×0.1mm（D×H） |
| 靶材 | Au（標(biāo)配） |
| 樣品室 | 硼硅酸鹽玻璃 160mm×120mm（D×H） |
| 靶材尺寸 | Ф 50mm |
| 真空指示表 | 真空度：≤ 4X10-2 mbar |
| 離子電流表 | 電流：50mA |
| 定時(shí)器 | 最長(zhǎng)時(shí)間：0-360S |
| 微型真空氣閥 | 可連接φ 3mm 軟管 |
| 可通入氣體 | 多種 |
| 電壓 | -1600 DCV |
| 機(jī)械泵 | 標(biāo)準(zhǔn)配置 2L/S（國產(chǎn) VRD-8） |
離子濺射儀NE-900產(chǎn)品特點(diǎn)：
1、簡(jiǎn)單、經(jīng)濟(jì)、可靠、外觀精美。
2、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強(qiáng)以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。
3、SETPLASMA 手動(dòng)啟動(dòng)按鈕可預(yù)先設(shè)置好壓強(qiáng)和濺射電流避免對(duì)膜造成不必要的損傷。
4、真空保護(hù)可避免真空過低造成設(shè)備短路。
5、同時(shí)可以通過更換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達(dá)到更細(xì)顆粒的涂層。
6、通過通入不同的惰性氣體以達(dá)到更純凈的涂層。
