NE-Q05型等離子體表面處理儀是由反應腔、真空系統(tǒng)、流量控制系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、電源系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。
反應腔由真空室、高頻電極組成，是等離子體反應空間，待處理物品置于反應腔內(nèi)；真空系統(tǒng)由真空泵以及真空管路組成，負責將反應腔體內(nèi)的空氣抽凈并在工作時維持適當?shù)恼婵斩龋涣髁靠刂葡到y(tǒng)主要由質(zhì)量流量計和電磁閥們組成，其作用是要精確控制反應氣體的進氣流量，并維持工作期間所要的真空度；真空測量系統(tǒng)由真空測量和真空度顯示儀組成，用于檢測背底真空度和工作真空的數(shù)值；電源系統(tǒng)為反應腔提供高頻信號和能量，以激發(fā)反應腔體內(nèi)的反應氣體電離形成所需要的等離子體；控制系統(tǒng)的作用是按照的工藝參數(shù)和步驟控制設備的動作過程，并維持工藝參數(shù)的穩(wěn)定。設備采用觸摸屏+PLC可編程控制器，處理參數(shù)可以在觸摸屏上任意設定，具有手動/自動切換功能。自動操作采用“一鍵式”,工作過程由計算機自動控制完成。手動操作有用戶在手動實驗界面上自行完成。
低溫等離子體表面處理儀產(chǎn)品參數(shù)：
| 型號 | NE-Q05低溫等離子體表面處理儀 |
| 腔體材質(zhì) | 石英玻璃 |
| 供電電源 | AC220V |
| 工作電流 | 整機工作電流不大于1.2A(不含真空泵) |
| 射頻電源功率 | 0-200W |
| 射頻頻率 | 13.56MHz（偏移量小于0.2KHz） |
| 真空度 | 1pa-30Pa |
| 工藝氣體通道 | 標配兩路（可加多路）可自由搭配工藝氣體（氧氣、氬氣等） |
| 內(nèi)腔尺寸 | 直徑150mm×270mm |
| 外形尺寸 | 650mmx550x600mm |
低溫等離子體表面處理儀應用領(lǐng)域：
（1）光學器件、電子元件、半導體元件、激光器件、鍍膜基片、終端安裝等的超清洗。
（2）清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
（3）移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質(zhì)，去除金屬材料表面的氧化物。
（4）清洗半導體元件、印刷線路板、ATR元件、人工晶體、天然晶體和寶石。
（5）清洗生物芯片、微流控芯片、沉積凝膠的基片。
（6）高分子材料表面的修飾。
（7）封裝領(lǐng)域中的清洗和改性，增強其粘附性，適用于直接封裝及粘和。
（8）改善粘接光學元件、光纖、生物醫(yī)學材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。
（9）涂覆鍍膜領(lǐng)域中對玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性，使其活化，增強表面粘附性、浸潤性、相容性，顯著提高涂覆鍍膜質(zhì)量。
（10）牙科領(lǐng)域中對鈦制牙移植物和硅酮壓模材料表面的預處理，增強其浸潤性和相容性。
（11）領(lǐng)域中修復學上移植物和生物材料表面的預處理，增強其浸潤性、粘附性和相容性。對的消毒和殺菌。
低溫等離子體的特點是電子和離子都處于平衡態(tài)，電子的溫度可以很高，但離子、分子還有原子等重粒子溫度卻很低。電子的高能量能夠使物體的分子激發(fā)、離化及分解，還能使反應容器內(nèi)保持低溫甚至室溫。低溫等離子體中高能粒子的能量大于聚合物材料分子的結(jié)合鍵能，可以使有機大分子鏈發(fā)生斷裂、重組，得到改性。經(jīng)過低溫等離子體表面處理儀處理的材料表面發(fā)生多種化學和物理變化，例如產(chǎn)生刻蝕，產(chǎn)生致密的交聯(lián)層以及引入極性基團，使材料的親水性、染色性、粘結(jié)性、生物相容性等得到改善。
