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單晶圓兆聲清洗機(jī)

參考價	￥ 40
訂貨量	≥1 件

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱德國韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司
品牌
型號SWC-4000
所在地香港特別行政區(qū)
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
更新時間2020/1/8 12:39:05
訪問次數(shù)590

產(chǎn)品標(biāo)簽:

單晶圓兆聲清洗機(jī)性能單晶圓兆聲清洗機(jī)型號單晶圓兆聲清洗機(jī)款式單晶圓兆聲清洗機(jī)用途供應(yīng)單晶圓兆聲清洗機(jī)

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公司介紹主營產(chǎn)品

First-Nano System GmbH

2003年創(chuàng)立于德國德累斯頓工業(yè)大學(xué)（Dresden University of Technology）

2008年香港成立德國韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司

2015年上海成立德國韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司中國代表處，負(fù)責(zé)中國區(qū)業(yè)務(wù)

德國韋氏納米系統(tǒng)成立以來，一直為客戶想的更多，Thinking more ?。。?/p>

產(chǎn)品范圍：

薄膜沉積/Thin Film Deposition
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蝕/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面處理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma
- Wet: Megasonic, Brush, SC1, SC2, Piranha, O3DIW
其他/Other,
Device Testing System for Space Simulation, Heated Platens, Plasma Sources, Resist Stripping Systems

展開顯示更多內(nèi)容

清洗機(jī)，分析儀

產(chǎn)品簡介在線詢價

單晶圓兆聲清洗機(jī)是一款帶有小占地面積的理想設(shè)備，并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設(shè)備都具有出眾的清洗能力，并可用于非常廣泛的基片。

單晶圓兆聲清洗機(jī) 產(chǎn)品信息

SWC-4000單晶圓兆聲清洗機(jī)應(yīng)用：

帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗
CMP處理后的晶圓片清洗
晶圓框架上的切粒芯片清洗
等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
帶保護(hù)膜的分劃版清洗
掩模版空白部位或接觸部位清洗
X射線及極紫外掩模版清洗
光學(xué)鏡頭清洗
ITO涂覆的顯示面板清洗
兆聲輔助的剝離工藝

SWC-4000單晶圓兆聲清洗機(jī)的特點：

支持12"直徑的圓片或9"x9"方片
獨立系統(tǒng)
無損兆聲,試劑，毛刷清洗及旋轉(zhuǎn)甩干
微處理機(jī)自動控制
化學(xué)試劑滴膠單元
溶劑與酸分離排廢
熱氮
30"D x 26"W 的占地面積

SWC-4000兆聲晶圓清洗機(jī)選配項：

掩模板或晶圓片夾具
臭氧清洗
PVA軟毛刷清洗
高壓DI清洗
氮氣離子發(fā)生器

客戶可以根據(jù)基板尺寸的大小訂制不同的兆聲清洗系統(tǒng)，如有技術(shù)咨詢，請及時：

First-Nano的技術(shù)也適用于清洗背部以及帶保護(hù)膜掩模版前面的對準(zhǔn)標(biāo)記，降低這些掩模版的不必要去除和重做保護(hù)膜的幾率。它也可以用于去除薄膜膠黏劑的黏附性并準(zhǔn)備表面以便再次覆膜。此外，帶薄膜掩模版的全部正面的兆聲清洗以及旋轉(zhuǎn)甩干可以做到無損并且對薄膜無滲漏。

SWC是一款帶有小占地面積的理想設(shè)備，并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設(shè)備都具有出眾的清洗能力，并可用于非常廣泛的基片。

關(guān)鍵詞：芯片