等離子UV光解凈化設(shè)備利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），再通過臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，*達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的。除臭設(shè)備光解催化氧化設(shè)備特制的高能高臭氧紫外線(UV)光束照射惡臭氣體，改動(dòng)惡臭氣體(如：氨、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、二硫化碳和苯乙烯，硫化物、苯、甲苯、二甲苯)的分子鏈構(gòu)造，使無機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變?yōu)榈头肿踊衔锘?礦化生成CO2和H2O。

　　等離子UV光解凈化設(shè)備優(yōu)點(diǎn)

　　1　無需預(yù)處理：工業(yè)廢氣無需進(jìn)行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等，設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃－95℃之間。

　　2　除惡臭：能去除揮發(fā)性有機(jī)物（VOC）、無機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，凈化、脫臭效率較高可達(dá)99%以上，凈化、脫臭效果大大超過國(guó)家1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)。

　　3　適應(yīng)性強(qiáng)：可適應(yīng)高濃度，大氣量，不同工業(yè)廢氣物質(zhì)的凈化處理，可每天24小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。

　　4　等離子UV光解凈化設(shè)備無需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動(dòng)力，使工業(yè)廢氣通過本設(shè)備進(jìn)行分解凈化，無需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。

　　5　運(yùn)行成本低：本設(shè)備無任何機(jī)械動(dòng)作，無噪音，無需專人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗。

　　等離子UV光解凈化設(shè)備適用范圍

　?。?）適應(yīng)范圍廣泛，對(duì)VOCs有機(jī)廢氣、非甲烷總烴、以及《國(guó)家惡臭污染控制標(biāo)準(zhǔn)》中規(guī)定的八大惡臭物質(zhì)（氨、硫化氫、二硫化碳、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、苯乙烯）以及苯、甲苯、二甲苯等廢氣均能有效治理凈化，特別適合處理各種惡臭廢氣、腐臭廢氣、噴漆廢氣、噴涂廢氣、電泳廢氣、電鍍廢氣、印刷印染廢氣、生物制藥廢氣、廢水污水臭氣廢氣、污泥臭氣處理等。

　?。?）等離子UV光解凈化設(shè)備可以處理各種廢氣，包括不適合采用等離子處理的廢氣（比如噴漆廢氣、噴涂廢氣、化工廢氣、含汽油酒精廢氣、含天那水廢氣、油漆廠廢氣、化肥廠廢氣等），如果采用UV光解設(shè)備，安全性更高。