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上海雋思實驗儀器有限公司
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當前位置:上海雋思實驗儀器有限公司>>半導體烘烤設備>>高精度恒溫熱板>> JS精密高溫熱板,掩膜板加熱臺

精密高溫熱板,掩膜板加熱臺

參   考   價: 8690

訂  貨  量: ≥1 件

具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號JS

品       牌雋思

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地上海

更新時間:2024-02-29 09:31:07瀏覽次數(shù):1124次

聯(lián)系我時,請告知來自 環(huán)保在線
產(chǎn)地 國產(chǎn) 加熱功率 1Kw
加熱區(qū)尺寸 220mm 盤面尺寸 240mm
溫度均勻性 0.5%℃ 顯示方式 數(shù)顯
最高加熱溫度 600℃
精密高溫熱板,掩膜版加熱臺采用高性能電熱管加熱,升溫快,熱效率高,使用壽命更長,維護簡單;

  掩膜是指集成電路制造所用的掩膜通常是縮小倍數(shù)的掩膜。制作掩膜是用電子束曝光系統(tǒng)將圖形直接轉(zhuǎn)移到對電子束敏感的掩膜上。掩模由鍍鉻玻璃板組成。電路圖形首先被轉(zhuǎn)移到對電子敏感的掩模上,再被轉(zhuǎn)移到下面的鍍鉻層上,最終得到需要的掩模。 

  一塊掩膜上的圖形代表了集成電路設計中的一層。綜合的布局布線圖按照集成電路制造對應的工序分成若干塊掩模層,例如隔離區(qū)是一層,柵極區(qū)是另一層等。一般一個完整的集成電路工藝流程需要15~20層不同的掩膜。

精密高溫熱板,掩膜版加熱臺性能

加熱面尺寸:160*160/220*220/350*350,可定制

溫度分辨率 :0.1℃  

溫度波動度:≤±0.5℃      

溫度均勻性:≤±0.5%℃

溫度范圍:RT+5-200/350/450/600℃      

可定制功能:真空/PIN/充氮/程序烘烤等

加熱盤面經(jīng)陽極氧化處理,具有更好耐腐蝕性, 更耐刮, 質(zhì)感更佳;

采用熱傳導率優(yōu)異的鋁合金板材,盤面均溫性能優(yōu)異,長時間高溫下不變形;

精密加工,一體成型,使盤面擁有 高的平整度;

采用高性能電熱管加熱,升溫快,熱效率高,使用壽命更長,維護簡單;

外殼采用不銹鋼材質(zhì),美觀耐用,傳熱慢,潔凈易維護。 

精密高溫熱板,掩膜版加熱臺用途

應于半導體硅片,載玻片,晶片,基片,ITO導電玻璃等工藝,制版的表面涂覆后,薄膜烘干,固化。固化光刻膠,固化環(huán)氧塑脂,掩膜版烘烤,柔性線路檢測,穿戴技術傳感器校準,放入手套箱內(nèi)等。適用于光刻工藝的前烘和堅膜、電路模塊的涂敷燒結(jié)和考核等工藝。


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