ABM雙面對(duì)準(zhǔn)（BSV）光刻機(jī)
ABM350BSV ¥1500000污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
上海螣芯電子科技有限公司
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上海螣芯電子科技有限公司
產(chǎn)品型號(hào)HS920
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)代理商
所 在 地上海市
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更新時(shí)間：2025-03-07 22:06:05瀏覽次數(shù)：266次
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螣芯HS系列國(guó)產(chǎn)半自動(dòng)紫外光刻機(jī)本設(shè)備是我公司專門要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、MEMS、化合物半導(dǎo)體、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)，該機(jī)器是高校、研究所、企業(yè)用戶優(yōu)選的高性價(jià)比機(jī)型。
螣芯HS系列國(guó)產(chǎn)半自動(dòng)紫外光刻機(jī)
半自動(dòng)光刻機(jī)-對(duì)準(zhǔn)模式 自動(dòng)
本設(shè)備是我公司專門要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、MEMS、化合物半導(dǎo)體、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)，該機(jī)器是高校、研究所、企業(yè)用戶優(yōu)選的高性價(jià)比機(jī)型。
主要技術(shù)參數(shù)：
1．曝光類型：?jiǎn)蚊嫫毓?；雙面曝光；雙面對(duì)準(zhǔn)單面曝光 可選
2．曝光面積：160×160mm；210×2100mm；310×310mm；可選
3．曝光照度不均勻性：≤2.5%（(Φ150mm 范圍）；
4．曝光強(qiáng)度：≥40mw/cm2可調(diào)；
5．紫外光束角：≤2?；
6．紫外光中心波長(zhǎng)：365nm；405nm可選
7．紫外光源壽命：≥2萬(wàn)小時(shí)；
8．曝光分辨率：0.8μm；
9．曝光模式：可選擇一次曝光或套刻曝光；
10．顯微鏡掃描范圍： Y：±30mm；
11．對(duì)準(zhǔn)范圍：X、Y±5mm（移動(dòng)精度0.5um），Q±6°（移動(dòng)精度0.001°）
12．對(duì)準(zhǔn)精度：±0.5um；
13．分離量；0～1000μm可調(diào)；
14．接觸－分離漂移：≤1μm；
15．曝光方式：真空接觸、硬接觸、壓力接觸、接近式；
16.掩模版尺寸：3″×3″、4″×4″、5″×5″、7″×7″9″×9″13″×13″各一件；
17.標(biāo)配承片臺(tái)： 2 英寸、3 英寸、4 英寸、6 英寸、8 、12、英寸各一件；
18.標(biāo)準(zhǔn)配件可兼容樣片厚度：0.1-6 mm；
19.可設(shè)計(jì)工作厚度：50 mm；
20.對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)：CCD
螣芯HS系列國(guó)產(chǎn)半自動(dòng)紫外光刻機(jī)
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