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上海艾時(shí)微技術(shù)開發(fā)有限公司
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更新時(shí)間：2023-03-15 19:12:35瀏覽次數(shù)：344次
聯(lián)系我時(shí)，請告知來自 環(huán)保在線采用雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償技術(shù)，可測量穆勒矩陣的全部16個單元，RC2是J.A.Woollam公司的的光譜橢偏儀產(chǎn)品。
一、 簡介
J.A.Woollam公司于1987年由Woollam教授等創(chuàng)辦。公司是由內(nèi)布拉斯加州立大學(xué)的科研成果為基礎(chǔ)衍生而來的專業(yè)生產(chǎn)光譜型橢圓偏振測量儀的廠商，公司研發(fā)、生產(chǎn)多種不同規(guī)格型號的橢偏儀。
J.A.Woollam公司擁有超過100項(xiàng)的橢偏patent技術(shù)，確保公司的技術(shù)處于地位。已有2000多套橢偏儀已被安裝到世界各地，廣泛應(yīng)用于各種領(lǐng)域的科研與生產(chǎn)當(dāng)中。RC2是J.A.Woollam公司的的光譜橢偏儀產(chǎn)品。采用雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償技術(shù)，可測量穆勒矩陣的全部16個單元。
二、 技術(shù)特點(diǎn)
設(shè)備特點(diǎn)：采用雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器，高精度快速測量。
采用消色散的補(bǔ)償器，性能更優(yōu)化。
的光源，計(jì)算機(jī)可控輸出光強(qiáng)。
的光束對準(zhǔn)系統(tǒng)，數(shù)據(jù)測量更準(zhǔn)確。
波長范圍： 193-1690nm（超過1000個波長點(diǎn)）
變角范圍： 45°-90°（水平樣品臺）
20°-90°（垂直樣品臺）
測量速度：典型數(shù)據(jù)全光譜測量不超過1秒。
自動樣品臺尺寸：8/12寸多種樣品臺可選
三、 應(yīng)用
單層膜或多層膜疊加、單一膜層及液態(tài)膜層，測量薄膜厚度、反射率和透射率、折射率等光學(xué)常數(shù)。
半導(dǎo)體薄膜：光刻膠、工藝薄膜、介電材料
液晶顯示：OLED、氧化層厚度、ITO
光學(xué)鍍膜：硬涂層厚度、減反涂層
高分子薄膜：PI、PC
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