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UPS三靶磁控濺射鍍膜機(jī)

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產(chǎn)品型號(hào)CY-MSP325S-3RF-D

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更新時(shí)間：2022-10-28 16:23:23瀏覽次數(shù)：175次

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  磁控濺射鍍膜儀

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

簡(jiǎn)單介紹：三靶磁控濺射鍍膜機(jī)是我公司自主研發(fā)的高性價(jià)比的磁控濺射鍍膜設(shè)備。它是標(biāo)準(zhǔn)化，模塊化和可定制的。該裝置可用于制備單層或多層鐵電薄膜，導(dǎo)電膜，合金膜，半導(dǎo)體膜，陶瓷膜，介電膜，光學(xué)膜，氧化物膜，硬膜，PTFE膜等。與同類設(shè)備相比，這種三靶磁控濺射鍍膜機(jī)不僅用途廣泛，而且具有體積小，操作簡(jiǎn)便的優(yōu)點(diǎn)，是實(shí)驗(yàn)室制備材料膜的理想設(shè)備。

詳細(xì)介紹

詳情介紹：

技術(shù)參數(shù)

電源電壓	l 交流220v，60Hz
UPS	l 20KVA 16KW，延遲1小時(shí) l 16節(jié)電池，容量38AH
真空室	l 尺寸：直徑 325毫米*高385毫米 l 材質(zhì)：304不銹鋼 l 視口（窗口）：約4英寸（100毫米），帶快門
樣品臺(tái)	l 頂部樣品架 l 樣品表：直徑 150毫米 l 樣本數(shù)量：大直徑4英寸 l 轉(zhuǎn)速：0-40rpm可調(diào) l 加熱溫度：高700oC l
水冷裝置	l 水流量：2.3m3 / h l 電源：3P l 制冷量：8250Kcal / h l 壓縮機(jī)輸出功率：2.25KW
磁控濺射槍	l 3×2''磁控濺射槍，帶自動(dòng)快門 l 向上濺射方向 l 目標(biāo)直徑：2英寸 l 磁鐵：稀土磁鐵
射頻發(fā)生器	l l3×RF 300W自動(dòng)匹配電源 l l功率輸出范圍：5W?300W l l大反射功率：100W l l電源穩(wěn)定性：±0.1％ l l諧波成分：≤-50dbc l l電源：?jiǎn)蜗?span>187-253 VAC，50 / 60HZ l 效率：≥70％ l l功率因數(shù)：≥90％ l l反射功率（大功率）：<3W l l大負(fù)載電流：30ARMS l l大負(fù)載電壓：7500VRMS l 射頻輸出接口：50Ω，L29或定制 l 比賽時(shí)間：1?3s l l匹配阻抗的實(shí)部范圍：0?80Ω l l匹配阻抗的虛部范圍：﹣200j?﹢ 200j l l冷卻方式：強(qiáng)制冷卻
質(zhì)量流量計(jì)	l l3×MFC質(zhì)量流量控制（Ar，O2和N2） l l測(cè)量范圍：*大20sccm l 帶氣動(dòng)隔離閥和過(guò)濾器。
通過(guò)PC或PLC全自動(dòng)控制	l 儲(chǔ)存至少100個(gè)配方 l 19''平板控制器