秦思肯 MAIA3 model 2016 高分辨掃描電子顯微鏡是一款具有超高表面靈敏度的高分辨掃描電子顯微鏡，在不同加速電壓下均有著出色的成像能力。秦思肯 MAIA3 model 2016 高分辨掃描電子顯微鏡在低電壓下也有的性能，尤其對(duì)電子束敏感的半導(dǎo)體器件樣品以及納米材料等...

詳細(xì)介紹

秦思肯Tescan MAIA3 model 2016 高分辨掃描電子顯微鏡是一款具有超高表面靈敏度的高分辨掃描電子顯微鏡，在不同加速電壓下均有著出色的成像能力。秦思肯Tescan MAIA3 model 2016 高分辨掃描電子顯微鏡在低電壓下也有的性能，尤其對(duì)電子束敏感的半導(dǎo)體器件樣品以及納米材料等都具有優(yōu)異的表面靈敏度及高空間分辨率。全新的MAIA3也非常適合研究不導(dǎo)電試樣如原始狀態(tài)的生物樣品。

以下是艾克賽普為您介紹秦思肯 MAIA3 model 2016 高分辨掃描電子顯微鏡的主要特點(diǎn)，如有相關(guān)問(wèn)題，請(qǐng)聯(lián)系長(zhǎng)沙艾克賽普，聯(lián)系電話(huà)：。

秦思肯Tescan MAIA3 model 2016 高分辨掃描電子顯微鏡有超高分辨率物鏡（60度浸沒(méi)式物鏡），全新的用于高分辨率分析工作的無(wú)漏磁分析物鏡，重新設(shè)計(jì)用于超大視場(chǎng)觀察的中間鏡。的電子束無(wú)交叉模式與超高分辨率物鏡相結(jié)合，獲得了的成像性能；傳統(tǒng)的TESCAN大視野光路設(shè)計(jì)提供各種工作和顯示模式；全新的EquiPower™技術(shù)進(jìn)一步提高電子束的穩(wěn)定性；新的肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍能使電子束流高達(dá)400nA并能實(shí)現(xiàn)電子束能量的快速改變；通過(guò)擴(kuò)展樣品室和專(zhuān)用支架能達(dá)到12”晶圓的SEM觀察；的TriBETM技術(shù)具有三個(gè)BSE探測(cè)器，可以選擇不同角度的信號(hào)進(jìn)行采集。位于鏡筒內(nèi)部的Mid-Ange BSE和In-Beam LE-BSE探測(cè)器，用于檢測(cè)中等角度及軸向的高角背散射電子，而樣品室的BSE探測(cè)器用于探測(cè)大角度范圍的背散射電子。并且這三個(gè)探測(cè)器能探測(cè)到低于200eV的低能背散射信號(hào)，綜合在一起，他們可以提供各種不同襯度的圖像；的TriSETM技術(shù)具有三個(gè)SE探測(cè)器，對(duì)所有工作模式下采集二次電子信號(hào)都進(jìn)行了優(yōu)化。位于鏡筒內(nèi)部的In-Beam SE探測(cè)器能在短工作距離下采集二次電子。用于電子束減速模式下的SE(BDM)探測(cè)器用于超高分辨成像。In-Chamber SE探測(cè)器能提供的形貌襯度；電子束減速技術(shù)(BDT)能在低至50eV的低電壓下，也仍具有出色的分辨率（選配）；的電子束實(shí)時(shí)追蹤技術(shù)可對(duì)電子束實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)優(yōu)化；擴(kuò)展的低真空模式樣品室氣壓能達(dá)到500Pa，可用于不導(dǎo)電樣品的成像。

超高分辨率0.7@15keV，1.0nm@1keV。浸沒(méi)式物鏡系統(tǒng)和無(wú)交叉電子束模式結(jié)合在一起，可在低能量下實(shí)現(xiàn)超高分辨成像。浸沒(méi)式物鏡能在樣品周?chē)a(chǎn)生強(qiáng)磁場(chǎng)，顯著降低了像差。而無(wú)交叉電子束模式則降低了Boersch效應(yīng)，對(duì)電子束進(jìn)行進(jìn)一步的優(yōu)化，最終達(dá)到1.0nm @1keV的超高分辨率。

低電壓和超低電壓成像。電子束減速技術(shù)(BDT)包括了電子束減速模式（BDM），以及在這個(gè)模式下可同步獲取二次電子和背散射電子信號(hào)的高質(zhì)量的透鏡內(nèi)探頭。在電子束減速模式下，通過(guò)加在樣品臺(tái)上的負(fù)偏壓使得電子束在作用到樣品表面前降低能量。的著陸電壓可以降低到50eV(在手動(dòng)控制下可以降到0eV)。電子束減速模式下減少了光路畸變，增強(qiáng)了電子鏡筒的性能，因而在低電壓下可以獲得更小的束斑直徑和高分辨的圖片。低電壓成像可以有效減少在觀察不導(dǎo)電樣品成像時(shí)出現(xiàn)的放電效應(yīng)，也有利于對(duì)那些電子束敏感樣品和未噴鍍處理的樣品的觀察。在這個(gè)模式下，可以達(dá)到對(duì)于表面形貌及成分襯度分析的極限分辨率。

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