本公司多年研發(fā)生產(chǎn)的XM-G-C型光催氧化設(shè)備是活性炭吸附、氣相催化氧化、化學(xué)吸附、離子裂解法等多種技術(shù)有機(jī)結(jié)合為一體，限度地發(fā)揮了復(fù)合凈化的高效能。廣泛應(yīng)用于煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、印染、制革、污水處理廠、垃圾處理站等惡臭氣體的脫臭凈化處理。標(biāo)準(zhǔn)：GB14554-93。
光催化氧化反應(yīng)是通過紫外線輻射納米TiO2光催化劑上產(chǎn)生高能電子（E-）和空穴（H+），與表面吸附的水（H2O）和氧氣（O2）反應(yīng)生成氧化的羥基自由基（OH-）和超氧離子自由基（O2、O-），反應(yīng)式如下：H2O+ H+ OH. + H+ O2+ E— O2—.OH—；能把各種廢臭氣體如醛類、苯類、氮氧化物、硫化物及其它VOC類有機(jī)物、無機(jī)物在光催化氧化的作用下還原成二氧化碳(CO2)、水(H2O)以及其它無毒無害物質(zhì),同時(shí)具有除臭、消毒、殺菌的功效。
型號(hào) | 風(fēng)量m3/h | 功率/kw | 電壓/V | 風(fēng)管/Φ | 外形尺寸mm | 備注/可議 | |
1 | XM-G-C0 | 1000 | 0.55 | 220 | 250 | 650*500*750 | Usu304 |
2 | XM-G-C1 | 2000 | 1.0 | 220 | 250 | 850*600*750 | Usu304 |
3 | XM-G-C2 | 4000 | 1.85 | 220 | 250 | 1350*500*750 | Usu304 |
4 | XM-G-C3 | 6000 | 2.5 | 380 | 300 | 1800*600*750 | Usu304 |
5 | XM-G-C4 | 8000 | 4.2 | 380 | 300 | 2500*600*750 | Usu304 |
6 | XM-G-C5 | 10000 | 6.5 | 380 | 300 | 3000*600*750 | Usu304 |
7 | XM-G-C6 | 20000 | 11 | 380 | 300 | 4500*700*1100 | Usu304 |
8 | XM-G-C7 | 30000 | 15 | 380 | 300 | 6000*700*1150 | Usu304 |
9 | XM-G-C8 | 40000 | 18.5 | 380 | 350 | 8000*800*1350 | Usu304 |
注：以上是采集處理能力的平均值,實(shí)際值與臭氣濃度、成份有直接關(guān)系，配置時(shí)可按實(shí)際情況進(jìn)行調(diào)整。
環(huán)保在線