產(chǎn)品概述：這款小型PECVD，其腔體為 3" dia x 16" L的石英腔體，而且加熱圈在石英腔體內(nèi)部對樣品進行加熱，此系統(tǒng)配有2通道混氣系統(tǒng)和雙旋機械泵。整套儀器都按放在一個移動架上，以便于實驗操作。等離子腔體內(nèi)部的溫度可以達到400℃，采用程序化控溫。此款小型廉價的PECVD系統(tǒng)對于薄膜生長和納米線的制作是一款很好的選擇。
| 等離子源 | · 等離子體射頻電源：110V 或220VAC, 50/60 Hz, < 100W · 輸出頻率： 13.56 MHz · 三檔射頻功率大?。?/span> 7.2W. 10.5W 和 18W （可調(diào)節(jié)） · 腔體尺寸：3"OD x 2.7"ID x 16" L 儀器中帶有一套不銹鋼密封法蘭使得腔體內(nèi)部的真空度為10^-2 torr（用機械泵） |
| 視頻 |
操作視頻 |
| 滑動法蘭 | · 有一滑軌法蘭安裝于移動架上，以便于樣品的放入和取出。 樣品可以放入加熱線圈內(nèi)，以達到更好的加熱效率和溫度的均勻性。 |
| 加熱圈和溫控系統(tǒng) | · 加熱圈尺寸：50mm OD x 40mm ID x 70mm，可使樣品達到的溫度為400℃ · 加熱圈上套有一2" ID x 75mm L的石英罩，以減小熱量損失 · 溫控方面:采用PID方式調(diào)節(jié)溫度，同時可設(shè)置30段升降溫程序，控溫精度為： +/-1oC 輸入電源： AC 220V
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| 兩通道混氣系統(tǒng) | · 混氣箱上安裝有兩個浮子流量計，其量程為10-100SCCM · 三個機械壓力表：-0.1-0.15 MPa, · 混氣箱上安裝有304不銹鋼針閥 · 配有三根1/4"的聚四氟乙烯管 · 混氣箱尺寸: 340Lx300Dx 180H, mm ( 13.4"x12"x7"). 凈重: 14 lbs. |
| 真空和氣體接口 | 標準的真空配置有 · 一套3"的不銹鋼法蘭（上面安裝有KF-25的真空泵接口，一個1/4"卡套接頭和不銹鋼針閥） · 一根KF25的波紋管（長度為1m)和三KF25卡箍 · 一個數(shù)字式真空顯示計 · 等離子腔體中可以通入多種惰性性氣體，如N2, Ar, Air ，以及各種混合性氣體。 · 可以調(diào)整腔體內(nèi)的壓力或是進氣流量，確保等離子體達到樣品處 （注意：不可通入易燃易爆性氣體） |
| 真空泵 | · 儀器中配有一雙旋機械真空泵，其抽氣速率為120L/min, 進氣口為KF25接口，可以使腔體內(nèi)真空度小于30mTorr |
| 移動架 | 設(shè)備中配有一 600L x 600W x 600H（mm)的移動架，整個CVD系統(tǒng)可以安置于其上面 |
| 儀器尺寸 | · 等離子源： 8.5" H x 10" W x 8" D · 溫控盒： 4"H x 10"W x 8"D 移動架：600 x 600 x 600mm |
| 重量 | 70 lb (包含真空泵) |
| 質(zhì)保期 | 一年質(zhì)保期（不包含石英管和密封圈） |
| 質(zhì)量認證 | CE 認證 |
環(huán)保在線