描述：
LP4-線性高溫計測量儀器在高溫和輻射實驗室的各種應用中隨處可見，其設計和施工達到了要求。新的LP4變化主要體現(xiàn)在光電機械設計上：
• 用一個apochromate代替了雙achromate，波長范圍是500nm~1700nm
•用集成式步進電機驅動的單輪更換手動驅動的雙濾輪裝置。數(shù)字電機驅動電路進行了優(yōu)化，通過電力電子引起的電磁干擾和溫度漂移來消除任何擾動溫度測量。一個額外的無摩擦機械精細定位應用，以確保過濾器的位置有一個很好的可重復性和長期穩(wěn)定性。
• 光電二極管和濾光輪箱溫度使溫度穩(wěn)定在29°C
• 過濾輪有6個六個地方允許選擇不同的光譜過濾器，如果有必要可以將一個中性密度的過濾器，或特殊應用的各種孔徑光闌結合起來，這就滿足了高適應性的特殊測量需求。
• 根據(jù)溫度范圍和實際測量要求（如箔和氣體的發(fā)射率或透射帶）適應中心波長和帶寬
• 測量單色溫度或輻射率
• 可運用到多波長評估和偏振輻射測溫
• 有效波長“就地”校準的干擾濾波器
• 目標視場光闌和孔徑光闌可更換，可使用不同物鏡。因此，距離目標直徑和孔徑角可以很容易地適應相應的需求。
環(huán)保在線