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光電催化氧化技術(shù)的介紹和基本原理

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常州時(shí)升環(huán)境工程科技有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

光電催化氧化技術(shù)——光電化學(xué)效應(yīng)(1839年E.Becquerel)1955年根據(jù)鍺電極試驗(yàn)得出的結(jié)果指出，Becquerel效應(yīng)是由于生成半導(dǎo)體-電解液結(jié)的關(guān)系，從而產(chǎn)生了利用照射置于電解槽中半導(dǎo)體電極生產(chǎn)化學(xué)品或電極的概念，1972年，利用n型半導(dǎo)體TiO2將水在比H2O/O2對(duì)的標(biāo)準(zhǔn)氧化電位負(fù)的多的情況下生產(chǎn)O2獲得成功之后，引起人們廣泛關(guān)注

詳細(xì)介紹

　　1、時(shí)升光電催化氧化技術(shù)的基本原理：

　光電催化氧化技術(shù)——光催化和電催化反應(yīng)的特例，同時(shí)具有光、電催化反應(yīng)的特點(diǎn)。是在光照條件下在具有不同類型(電子和離子)電導(dǎo)的兩個(gè)導(dǎo)電體的界面上進(jìn)行的一種催化過(guò)程?！　【哂泄獯呋奶攸c(diǎn)：光化學(xué)氧化法應(yīng)用產(chǎn)生新的可移動(dòng)的載流子(具有更高的氧化或還原能力)，伴隨著電流的流動(dòng)?！　」怆娀瘜W(xué)過(guò)程：光能、電能或化學(xué)能之間的轉(zhuǎn)化根據(jù)光激發(fā)起始步驟的不同?！　》譃閮深悾弘姌O(催化劑)的光激發(fā)引起：半導(dǎo)體電極和金屬電極半導(dǎo)體電極：近表面區(qū)形成一個(gè)空間電荷層，有可能參與電極/電解液界面的電化學(xué)反應(yīng)。

　　2電解液(反應(yīng)物)的光激發(fā)引起：

近電極層中的物質(zhì)，尤其是在表面上吸附的物質(zhì)才能參與所討論的光電化學(xué)電極過(guò)程。通常所說(shuō)的光電催化技術(shù)是指一種光催化與電化學(xué)聯(lián)用的新型高級(jí)氧化技術(shù)。主要是通過(guò)固定化技術(shù)將半導(dǎo)體光催化負(fù)載在導(dǎo)體基體上制成工作電極，同時(shí)在工作電極上施加偏電壓，從而在電極內(nèi)部形成一個(gè)電勢(shì)梯度，促進(jìn)因電極光激發(fā)產(chǎn)生的光電子和空穴向相反方向移動(dòng)，抑制了它們的負(fù)荷，以加速分離。　　優(yōu)點(diǎn)：　　(1)將電子還原過(guò)程和空穴氧化過(guò)程從空間位置分開(kāi)，增加了HO·的生成效率，阻止了氧化產(chǎn)物在陰極上的再還原?！　?2)不需要向系統(tǒng)內(nèi)鼓入氧氣(空氣)作為氧化劑，降低了LOGO動(dòng)力消耗?！　」怆姶呋趸夹g(shù)在難降解水中污染物的過(guò)程：借助于外加電壓移去光陽(yáng)極上的光生電子，減少光生電子和光生空穴發(fā)生簡(jiǎn)單復(fù)合的幾率，通過(guò)提高量子化效率達(dá)到提高光催化氧化效率的目的。常州時(shí)升環(huán)境工程階級(jí)有限公司內(nèi)外專家以及院校，專業(yè)提供電化學(xué)高級(jí)氧化技術(shù)、濕式氧化技術(shù)、光催化氧化技術(shù)、臭氧催化氧化技術(shù)、UV聯(lián)合工藝氧化技術(shù)、高級(jí)生物氧化技術(shù)，技術(shù)廣泛應(yīng)用于工業(yè)有機(jī)廢水處理、抗生素制藥廢水、含氰廢水處理及其他水處理除氧工藝流程的應(yīng)用。

關(guān)鍵詞：催化劑

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