污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
束倫（上海）技術(shù)服務(wù)有限公司
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| 參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)PARSTAT 4000A
品 牌
廠商性質(zhì)0
所 在 地
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更新時(shí)間：2022-03-30 13:25:06瀏覽次數(shù)：253次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線產(chǎn)品概述48V超高槽壓滿足高溶液電阻系統(tǒng)測(cè)試
產(chǎn)品概述
48V超高槽壓滿足高溶液電阻系統(tǒng)測(cè)試； 10MHz高頻可覆蓋溶液至固態(tài)材料測(cè)量； 標(biāo)配4A 電流滿足材料及大容量?jī)?chǔ)能器件測(cè)試; 超高電流分辨率實(shí)現(xiàn)超微電極及傳感器測(cè)量； 專業(yè)能源測(cè)試模塊
產(chǎn)品介紹
PARSTAT 4000A電化學(xué)工作站是在PARSTAT4000電化學(xué)工作站上升級(jí)研發(fā)的一款“優(yōu)先級(jí)”（Reference Grade)電化學(xué)工作站。它集“普林斯頓應(yīng)用研究”50余年品牌歷史和專業(yè)制造DC電化學(xué)測(cè)量?jī)x器，“輸力強(qiáng) 應(yīng)用研究”60年AC阻抗測(cè)試儀器研發(fā)及制造的的經(jīng)驗(yàn)研發(fā)制造，是集合兩個(gè)的研發(fā)制造技術(shù)而生產(chǎn)的一款研究級(jí)電化學(xué)工作站系統(tǒng)。 PARSTAT 4000A電化學(xué)工作站可以應(yīng)用于以下研究領(lǐng)域，研究電化學(xué)，腐蝕和涂層，電池/超級(jí)電容器，燃料電池/太陽(yáng)能電池，傳感器，生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用和納米科技。提供更高的測(cè)試速度，多功能性和精度，新的PARSTAT 4000A電化學(xué)工作站是一個(gè)建立在客戶應(yīng)用建議基礎(chǔ)上研發(fā)設(shè)計(jì)的例子。
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數(shù)據(jù)采集 | |
數(shù)據(jù)采集 | 3 x 18 bit 1M樣品/秒 數(shù)模轉(zhuǎn)換 |
時(shí)間分辨率 | 1µs (1M 樣品/秒) |
自動(dòng)噪音濾波 | 可用 |
功率放大器 | |
輸出電壓 | ±48V |
輸出電流 | ±4A (標(biāo)配) |
恒電位帶寬 | 10MHz |
穩(wěn)定性設(shè)定 | 高速/高穩(wěn)定性 (可根據(jù)具體試驗(yàn)設(shè)置) |
切換速度 | >25V/µs |
上升時(shí)間 (-1.0V to +1.0V) | <100 ns |
電位控制 (恒電位模式) | |
施加電位范圍 | ±10V(+/-48V可擴(kuò)展) |
施加電位分辨率 | for ±10mV signal = 305nV for ±100mV signal = 3µV for ±1V signal = 30µV for ±10V signal = 300µV |
施加電位準(zhǔn)確度 | ±0.025% of value ±1mV |
掃速 | 25KVs-1 (25 mV step) |
掃速范圍及精度 | ±10V / 300µV |
電流控制 (恒電流模式) | |
施加電流范圍 | ±4A (標(biāo)配), ±20A (選配) |
施加電流分辨率 | ±1/32,000 x 全量程 |
施加電流精度 | ±0.2% of reading, ±0.2% of range |
電流量程/分辨率 | ±4A / 123µA標(biāo)配 |
最小電流量程/分辨率 | ±40pA / 1.2fA標(biāo)配，(80fA/2.5aA LCI小電流選件) |
差分靜電計(jì) | |
輸入范圍 | ±10V |
帶寬 | ≥10MHz (3dB) |
輸入阻抗 | ≥1014 Ω in parallel with ≤2pF (typical) |
漏電流 | ≤2pA at less than 25°C |
CMRR | 60 dB at 100kHz (typical) |
電位測(cè)量 | |
電位測(cè)量范圍 | ±10V ( +/-100V，可通過增壓器選件擴(kuò)展) |
最小電位分辨率 | 1.5µV |
電位精度 | ±0.025% of reading ±1mV |
電流測(cè)量 | |
電流測(cè)量范圍 | 自動(dòng)量程 (13 量程) 20A to 40pA (13 量程) |
電流分辨率 | 1.2fA (40pA 量程) |
電流精度 (DC) | 2nA to 20A: ±0.2% of reading, ±0.2% of range 40pA to 200pA: ±0.5% ±4pA |
帶寬 | 10MHz (signal ≥20mA range typical) |
帶寬噪聲濾波功能 | 有, 7檔 |
阻抗模塊 (EIS) 選件 | |
模式 | 電位控制/電流控制 |
頻率范圍 | 10µHz to 10MHz |
最小交流電壓幅值 | 0.1mV RMS |
掃描方式 | 線性 or 對(duì)數(shù) |
iR 補(bǔ)償 | |
正反饋 | 有 |
動(dòng)態(tài) iR 補(bǔ)償 | 有 |
接口 (標(biāo)配) | |
數(shù)字輸入/數(shù)字輸出 | 5 TTL logic 輸出, 2 TTL logic 輸入 |
輔助電壓輸入 | 同步測(cè)量電壓及電流; ±10V 范圍, 輸入阻抗10kΩ; Filter: off, 1kHz, 200kHz; BNC connector |
數(shù)模轉(zhuǎn)換 電壓輸出 (標(biāo)配) | ±10V 范圍, 輸出阻抗1kΩ; BNC connector (用于攪拌器，旋轉(zhuǎn)盤電極等) |
計(jì)算機(jī) / 軟件 | |
通訊接口 | USB模式 |
操作系統(tǒng) | Windows XP, or Windows 7, 8, 10 |
PC 配置 (至少需求) | Core i 5 / 4GB memory 高數(shù)據(jù)采集需要大內(nèi)存 |
軟件 | VersaStudio/ VersaStudio Developers Kit(VDK) |
常規(guī) | |
電壓 | 750VA Max. Voltage range 90Vac to 250Vac, 50-60Hz |
尺寸（長(zhǎng)X寬X高） | 515 x 490 x 195mm |
重量 | 50lbs, 23kgs |
使用環(huán)境溫度 | 10°C to 50°C |
濕度 | Maximum 80% non-condensing |
理想溫度 | 25°C |
Dummy Cell 模擬電解池 | 內(nèi)置 (DC only) |
CE 認(rèn)證 | 通過 |
20A 電流放大器選項(xiàng) | 型號(hào) |
±20A 大電流選項(xiàng)，支持化學(xué)電池、燃料電池及電鍍應(yīng)用，在電流放大及通常操作模式之間轉(zhuǎn)換，僅需簡(jiǎn)單的電纜連接。 | 20A/ PARSTAT4000 |
超小電流選件 | |
即插即用，超小電流選項(xiàng)，電流量程為80fA，分辨率達(dá)2.5aA | VersaSTAT LC |
高級(jí)輔助輸入接口Advanced Auxiliary Interface | |
此 AAI 選項(xiàng)，允許附加一個(gè)帶有4個(gè)A/D轉(zhuǎn)換輸入接口，使得Versastudio software 通過VersaSTAT主機(jī)獲得更多記錄數(shù)據(jù)。 | AAI/PARSTAT4000 |
電化學(xué)池選件 | |
Corrosion Cell Kit 腐蝕電解池 | K0047 |
Corrosion Flat Cell 平板電解池 | K0235 |
Micro-Cell Kit 微電解池 | K0264 |
Analytical Cell Kit 分析電解池 | RDE0018 |
Tait Cell 涂層評(píng)價(jià)池 | K0307 |
輔助附件 | |
石英晶體微天平 | QCM922 |
旋轉(zhuǎn)盤電極 | 616 |
旋轉(zhuǎn)環(huán)盤電極 | 636 |
全功能電化學(xué)綜合測(cè)試VersaStudio 軟件 *的Studio軟件支持PARSTAT4000電化學(xué)工作站，包括20A電流放大設(shè)備及超小電流選件。各種系統(tǒng)綜合性的軟硬件結(jié)合，使Studio可以致力于各個(gè)領(lǐng)域中的研究，并且通過不同的預(yù)算不斷升級(jí)。 軟件提供全面、廣泛的電化學(xué)測(cè)試方法，它不但功能強(qiáng)大，而且便于新手學(xué)習(xí)使用。
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開路電位 | 方波伏安 | 控制電位阻抗 |
線性掃描 | 差分脈沖伏安 | 控制電流阻抗 |
循環(huán)伏安 (單次) | 常規(guī)脈沖伏安 | Loop循環(huán)實(shí)驗(yàn) |
循環(huán)伏安 (多次循環(huán)) | 反相常規(guī)脈沖伏安 | 延時(shí)功能 |
階梯線性掃描 | 零阻計(jì)（電化學(xué)噪聲） | 信息提示功能 |
階梯循環(huán)伏安 (單次) | 電偶腐蝕 | 開路電位測(cè)試功能 |
階梯循環(huán)伏安 (多次) | 循環(huán)極化 | 輔助輸入界面 |
計(jì)時(shí)電流 | 線性極化 | 外部應(yīng)用觸發(fā) |
計(jì)時(shí)電位 | Tafel塔菲爾曲線 | DAC 輸出控制 |
計(jì)時(shí)電量 | 恒電位 | 電極表面預(yù)處理 |
快速電位脈沖 | 動(dòng)電位 | 預(yù)沉積 |
快速電量脈沖 | 恒電流 | 系統(tǒng)平衡 |
周期電位脈沖 | 動(dòng)電流 | 系統(tǒng)凈化 |
周期電量脈沖 | 動(dòng)態(tài) iR | iR補(bǔ)償測(cè)量 |
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