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真空式等離子處理系統(tǒng) CRF-VPO-8L-S

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  • 型號(hào) CRF-VPO-8L-S
  • 品牌
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
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更新時(shí)間:2022-08-15 15:10:48瀏覽次數(shù):207

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)品特點(diǎn)●超大處理空間,提升處理產(chǎn)能,采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng),精準(zhǔn)的控制設(shè)備運(yùn)行;●可按照客戶要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù),滿足客戶的需求;保養(yǎng)維修成本低,便于客戶成本控制;●高精度,快響應(yīng),良好的操控性和兼容性,完善的功能和專業(yè)的技術(shù)支持

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品特點(diǎn)

● 超大處理空間,提升處理產(chǎn)能,采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng),精準(zhǔn)的控制設(shè)備運(yùn)行;
● 可按照客戶要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù),滿足客戶的需求;保養(yǎng)維修成本低,便于客戶成本控制;
● 高精度,快響應(yīng),良好的操控性和兼容性,完善的功能和專業(yè)的技術(shù)支持。
 

應(yīng)用范圍

真空等離子清洗機(jī)適用于印制線路板行業(yè),半導(dǎo)體IC領(lǐng)域、硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域,汽車電子行業(yè),航空工業(yè)等。印制線路板行業(yè):高頻板表面活化,多層板表面清潔、去鉆污,軟板、軟硬結(jié)合板等離子表面清潔、去鉆污,軟板補(bǔ)強(qiáng)前活化。半導(dǎo)體IC領(lǐng)域:COB、COG、COF、ACF工藝,用于打線、焊接前的清洗;硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域硅膠、塑膠、聚合體的表面粗化、刻蝕、活化。

 

真空等離子清洗機(jī)采用激起等離子體方式作為清洗的介質(zhì),可有效防止液體清洗物質(zhì)對(duì)被清洗目標(biāo)的造成的二次污染。該機(jī)器設(shè)備配置了真空泵,在維持真空設(shè)備內(nèi)腔真空的狀況下,能將等離子體中反應(yīng)的污染物排出,那樣可在短時(shí)間內(nèi)快速*消除污染物。

 

真空等離子清洗機(jī)設(shè)計(jì)方案合理有效,需針對(duì)不同材料搭配組合??轨o電支撐架可避免靜電對(duì)產(chǎn)品導(dǎo)致的影響。等離子清洗機(jī)可根據(jù)等離子轟擊或產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)完成對(duì)產(chǎn)品表層的離子注入、活化和清洗。對(duì)表層開展粘接,可明顯增強(qiáng)粘接抗壓強(qiáng)度。

 

等離子清洗機(jī)具備過電流漏電保護(hù)器電源開關(guān),自診電源電路,異?,F(xiàn)象蜂鳴器警報(bào)等安全作用?,F(xiàn)階段用于液晶顯示屏、LED、集成電路芯片、印刷線路板、貼片式、BGA、導(dǎo)線框、觸控平板等的清洗和蝕刻工藝。等離子清洗集成電路芯片能明顯增強(qiáng)鍵合強(qiáng)度,降低電路無效的概率。觸碰到等離子體后,殘余的光刻膠、環(huán)氧樹脂、有機(jī)溶劑殘余物以及它有機(jī)污染物可在短時(shí)間內(nèi)被除去。

 

采用溫度、工作壓力、出現(xiàn)異常報(bào)警燈三層警報(bào)燈的真空等離子清洗機(jī),可對(duì)機(jī)器設(shè)備運(yùn)作情況開展實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)與運(yùn)行。等離子清洗機(jī)在電子器件、航空和別的工業(yè)生產(chǎn)中,可信性取決于兩種材料表層間的結(jié)合強(qiáng)度。不論是金屬材料、瓷器、高聚物、塑膠或它們的復(fù)合型材料,等離子體都是可以改進(jìn)粘合性附著力并提升產(chǎn)品的品質(zhì)。


等離子清洗機(jī)還可依據(jù)特定的情況更改一些材料的表層特性。等離子設(shè)備在清洗過程中的輝光放電能提高這些材料的黏附性、相溶性和潤(rùn)滑性。清洗機(jī)電源選用RF射頻電源,穩(wěn)定可靠的功放模塊和DC模塊,確保了電源的RF輸出功率輸出,采用高品質(zhì)的電子元器件,確保了產(chǎn)品可靠性。

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名稱(Name)

真空式等離子處理系統(tǒng)

型號(hào)(Model)

CRF-VPO-8L-S

控制系統(tǒng)(Control system)

PLC+觸摸屏

電源(Power supply)

380V/AC,50/60Hz, 3kw

射頻電源功率(RF Power)

600W/13.56MHz

容量(Volume )

80L(Option)

層數(shù)(Electrode of plies )

8(Option)

有效處理面積(Area)

400(L)*300(W)(Option)

氣體通道(Gas)

兩路工作氣體可選:Ar、N2、H2、CF4、O2

外形(Appearance )

鈑金結(jié)構(gòu)

 

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