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金屬材料分析儀器|金屬光譜分析儀

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更新時(shí)間：2021-08-31 17:27:17瀏覽次數(shù)：501次

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  直讀光譜儀

  其他品牌

南京金石分析儀器廠

經(jīng)營(yíng)模式：生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品：144條

所在地區(qū)：江蘇南京市

聯(lián)系人：孔祥鑫（銷(xiāo)售部經(jīng)理）

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金屬材料分析儀|金屬光譜分析儀高性能、靈活性臺(tái)式全譜直讀光譜儀JS-GP891型臺(tái)式全譜直讀光譜儀全新設(shè)計(jì)的桌面光譜儀

詳細(xì)介紹

金屬材料分析儀|金屬光譜分析儀

高性能、靈活性臺(tái)式全譜直讀光譜儀

JS-GP891型臺(tái)式全譜直讀光譜儀全新設(shè)計(jì)的桌面光譜儀，廣泛應(yīng)用冶金、鑄造、機(jī)械制造、金屬制品、建筑、石油化工、技術(shù)監(jiān)督、大專(zhuān)院校、科研院所等部門(mén)，采用全電腦控制全數(shù)字火花光源，運(yùn)用CCD檢測(cè)技術(shù)及*的真空光室可精確測(cè)定非金屬元素以及各種合金元素含量如碳、硫、錳、磷、硅、鉻、鉬、鎳、銅、鈦、鎢、鈷、鉛、鋅、鐵、鋁、鎂、稀土、鈮、釩、硼等元素的分析

，實(shí)現(xiàn)全譜分析。測(cè)定結(jié)果精準(zhǔn)，重現(xiàn)性及長(zhǎng)期穩(wěn)定性；

產(chǎn)品配置及特點(diǎn)

1、采用*設(shè)計(jì)的真空光室可精確測(cè)定非金屬元素中C、P、S等以及各種合金元素含量，測(cè)定結(jié)果精準(zhǔn)，重現(xiàn)性及長(zhǎng)期穩(wěn)定性。

2、 *的真空光學(xué)室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半。將入射窗與真空室分離使入射窗日常清洗維護(hù)方便快捷。

3、光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線掃描，自動(dòng)光路校準(zhǔn)，確保譜線接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。

4、*的激發(fā)臺(tái)及氬氣氣路設(shè)計(jì)，大大降低了氬氣使用量。靈活的樣品夾設(shè)計(jì)，以滿(mǎn)足客戶(hù)現(xiàn)場(chǎng)的各種形狀大小的樣品分析。

5、不增加硬件設(shè)施的情況下，即可實(shí)現(xiàn)多基體分析。相比光電倍增管光譜儀可大大降低客戶(hù)使用成本及使用范圍。

6、采用的噴射電極技術(shù)。在激發(fā)狀態(tài)下，電極周?chē)鷷?huì)形成氬氣噴射氣流，這樣在激發(fā)過(guò)程中激發(fā)點(diǎn)周?chē)粫?huì)與外界空氣接觸，提高激發(fā)精度；

7、配上專(zhuān)用的光譜操作軟件*兼容于windows系統(tǒng)。同時(shí)可以根據(jù)客戶(hù)需求配備各種語(yǔ)言版本。軟件操作簡(jiǎn)單即使沒(méi)有任何光譜儀知識(shí)及操作經(jīng)驗(yàn)的人員只需經(jīng)過(guò)簡(jiǎn)單的知識(shí)培訓(xùn)即可上手使用。

8、采用高性能FPGA、DSP及ARM處理器，具有超高速數(shù)據(jù)采集分析功能，并能自動(dòng)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、、激發(fā)光源等模塊的運(yùn)行狀況。

9、全數(shù)字化等等離子激發(fā)光源，超穩(wěn)定能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品。全數(shù)字激發(fā)脈沖，確保激發(fā)樣品等離子體能量超高分辨率和高穩(wěn)定輸出。滿(mǎn)足各種不同材料的激發(fā)要求。

10、樣品激發(fā)臺(tái)采用銅火花臺(tái)底座，鎢材料電極；銅火花臺(tái)底座為激發(fā)臺(tái)提供較好的散熱及堅(jiān)固等特性，同時(shí)鎢電極使用壽命長(zhǎng)，耐高溫等特性也提高了激發(fā)的性能；電極自吹掃功能的設(shè)計(jì)，為激發(fā)創(chuàng)造了良好的環(huán)境，也使激發(fā)臺(tái)清潔電極更加容易。

技術(shù)參數(shù)

分析基體： Fe、Cu、Al、Ni、Ti、Co、Zn、Sn、Mg、Pb、等

檢測(cè)時(shí)間：依據(jù)樣品類(lèi)型而定，一般25S左右
光學(xué)結(jié)構(gòu)：帕邢-龍格羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)

波長(zhǎng)范圍： 130-800nm

焦距：400mm

光柵刻線：3000條/mm

探測(cè)器高性能：CCD陣列

電極：鎢材噴射電極

分析間隙：樣品臺(tái)分析間隙：3.4mm

光源類(lèi)型：全新可調(diào)節(jié)數(shù)字化光源，高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS）

激發(fā)頻率：100-1000Hz

放電電流： 400A