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單道掃描ICP光譜儀-Plasma 1000

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產(chǎn)品型號(hào)Plasma 1000 單道掃描ICP

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更新時(shí)間：2023-08-24 14:04:18瀏覽次數(shù)：349次

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鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司

經(jīng)營(yíng)模式：生產(chǎn)廠家

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所在地區(qū)：北京北京市

聯(lián)系人：鋼研納克（經(jīng)理）

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單道掃描ICP光譜儀-Plasma 1000

詳細(xì)介紹

鋼研納克ICP光譜儀源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開(kāi)發(fā)經(jīng)驗(yàn),數(shù)十項(xiàng)ICP檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)的起草單位,重大科學(xué)儀器專項(xiàng)《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,ICP光譜儀產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)GB/T 36244-2018起草單位,最懂ICP應(yīng)用的國(guó)產(chǎn)ICP光譜儀制造商。央企品牌，上市公司，品質(zhì)之選！ 歡迎. ：文經(jīng)理電話: 手機(jī)

Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀儀器特點(diǎn)：

1. 分析流程全自動(dòng)化控制，實(shí)現(xiàn)軟件點(diǎn)火、氣路智能控制功能；

2. 輸出功率自動(dòng)匹配調(diào)諧，功率參數(shù)程序設(shè)定；

3. 優(yōu)良的光學(xué)系統(tǒng)，*的控制系統(tǒng)，保證峰位定位準(zhǔn)確，信背比優(yōu)良；

4. 極小的基體效應(yīng)；

5. 測(cè)量范圍寬，超微量到常量的分析，動(dòng)態(tài)線性范圍5—6個(gè)數(shù)量級(jí)；

6. 檢出限低，大多數(shù)元素的檢出限可達(dá)ppb級(jí)；

7. 良好的測(cè)量精度，穩(wěn)定性相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD≤1.5%（5ppm），優(yōu)于國(guó)家A級(jí)標(biāo)準(zhǔn)（JJG768-2005）；

8. Rf輸出功率的范圍750-1500W，輸出功率穩(wěn)定性小于0.1%；

9. 光電倍增管的負(fù)高壓可在0-1000V范圍內(nèi)獨(dú)立可調(diào)，可根據(jù)不同元素的不同譜線單獨(dú)設(shè)置條件，和全譜儀器比較有更好的檢出限；

10. 納克儀器采用高屏蔽和良好接地保證操作者的安全；

11. 高精度的光室恒溫系統(tǒng)，保證儀器優(yōu)良的長(zhǎng)短期精度；

12. 多通道蠕動(dòng)泵進(jìn)樣，保證儀器進(jìn)樣均勻，工作穩(wěn)定；

13. 使用鈸銅彈片和特殊處理的屏蔽玻璃，在吸收紫外線同時(shí)使儀器輻射小于2V/m（JJG768-2005規(guī)定小于10V/m）。

14. 具有較高的譜線分辨率，能分出Hg313.154和313.183nm雙線譜線，能分出鐵的四重峰。

15. 人性化的軟件設(shè)計(jì)，操作方便，升級(jí)。功能強(qiáng)大、友好的人機(jī)界面分析軟件,可在測(cè)定過(guò)程中，進(jìn)行數(shù)據(jù)處理，方法編制和結(jié)果分析，是真正的多任務(wù)工作軟件；該軟件數(shù)據(jù)處理功能強(qiáng)大，提供了多種方法，如內(nèi)標(biāo)校正、IECS和QC監(jiān)測(cè)功能等，可獲得的背景扣除點(diǎn)以消除干擾；對(duì)輸出數(shù)據(jù)可直接打印或自動(dòng)生成Excel格式的結(jié)果報(bào)告。