OTF-1200X 1200℃單溫區(qū)開啟式真空管式爐

是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)，在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下，對金屬、非金屬及其它化合物進(jìn)行燒結(jié)、熔化、分析而研制的專用設(shè)備。

主要特點

雙層殼體，配有循環(huán)風(fēng)冷系統(tǒng)，殼體溫度<60℃。

2、內(nèi)爐膛表面涂有美國進(jìn)口氧化鋁涂層，可以提高加熱效率，同時延長使用壽命。
3、采用PID控制器，可以設(shè)置30段升降溫程序。
4、設(shè)有超溫及斷偶報警功能。
5、已通過CE認(rèn)證。

OTF-1200X 1200℃單溫區(qū)開啟式真空管式爐技術(shù)參數(shù)

安裝條件

本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水：不需要

2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地。

3、氣：如作為CVD系統(tǒng)使用，客戶需自備氣源（標(biāo)準(zhǔn)帶有寶塔接頭，可自費改制成為雙卡套接頭）。

4、工作臺：尺寸600mm×600mm×700mm，承重100kg以上

5、通風(fēng)裝置：需要。

技術(shù)參數(shù)

1、電源：AC 220V   50Hz/60Hz  2.5KW

2、石英管：外徑?50mm，內(nèi)徑?44mm，長1000mm

外徑?60mm，內(nèi)徑?54mm，長1000mm

                      外徑?80mm，內(nèi)徑?74mm，長1000mm

外徑?100mm，內(nèi)徑?94mm，長1000mm

3、加熱元件：摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲，表面涂有氧化鋯

4、加熱區(qū)域：440mm

5、工作溫度：1200℃（必須通入惰性氣體以防止?fàn)t管發(fā)生形變），連續(xù)工作1100℃

6、升降溫速率：20℃/min

7、控溫精度：±1℃

8、真空度：10-2torr（機(jī)械泵），10-5torr（分子泵）

9、泄漏率：<5mtorr/min

產(chǎn)品規(guī)格

尺寸：590mm×380mm×520mm；重量：40kg