EDI電除鹽技術(shù)簡介：
相當長的一段時間，許多水處理公司試圖尋找一種操作簡單、無需酸堿再生的技術(shù)來替代混床技術(shù)。現(xiàn)在坎普爾EDI連續(xù)電除鹽技術(shù)已經(jīng)實現(xiàn)了這個夢想。而加拿大坎普爾公司的EDI品牌Canpure CP-500S在范圍約占據(jù)一定的*。Canpure電除鹽EDI模塊采用模塊化技術(shù)，通過不同數(shù)量的模塊搭配，可以使用各種水處理要求。其為發(fā)電、半導體、微電子、化工以及生物制藥等行業(yè)的高純水的生產(chǎn)提供了有力的保障。具有CE、UL、和CSA標識，歐洲FDA衛(wèi)生認證，通過ISO900L:2000認證。能夠穩(wěn)定生產(chǎn)出電阻率高達18MΩ.cm的超純水。滿足用水要求的客戶。
EDI與傳統(tǒng)混床的比較：
工藝比混床*
無需化學品再生，不會產(chǎn)生酸堿廢水
EDI運行成本大幅低于混床
EDI連續(xù)運行，操作簡單
減少純水設備占地空間
連續(xù)提供18兆歐的高純水
Canpure坎普爾EDI模塊技術(shù)參數(shù)：
給水總可交換陰離子 (mg/L,CaCO3)≤35
給水總硬度 (mg/L,CaCO3)≤10
給水硅 (mg/L)≤0.5
EDI利用傳統(tǒng)的離子交換樹脂將水中的污染離子去除，其的優(yōu)點在于：EDI技術(shù)采用直流電迫使污染離子持續(xù)的從進水中遷移出來，并穿過離子床和離子交換膜進入濃水室，同時直流電能夠?qū)⑺肿与婋x成氫氧跟離子，持續(xù)的對樹脂進行再生。因此EDI可以持續(xù)穩(wěn)定生產(chǎn)高純水。
坎普爾EDI進水要求:
以下是保證EDI正常運行的條件，為了使系統(tǒng)運行結(jié)果正常，系統(tǒng)設計時應適當提高。
給水：通常為一級反滲透+軟化或二級反滲透產(chǎn)水，一般電導率為1-40μS/cm。。
TEA(總可交換陰離子)：小于25ppm，以CaCO3計。由于進水中所含的CO2會轉(zhuǎn)化成HCO3-或CO32-，因此TEA(總可交換陰離子)中應包括CO2的量。
TEC(總可交換陽離子)：小于25ppm，以CaCO3計。
pH：6.0～9.0(正常電阻率性能對應的pH范圍為7.0～9.0，但是，在此pH條件下，硬度不能太高)。
溫度：5-35°C。
進水壓力：為4bar(60psi)。注意：組件壓力損失取決于流量。
出水壓力：濃水和極水的出口壓力必須低于產(chǎn)品水的出口壓力。
硬度(以CaCO3計)：為1.0 ppm，取決于回收率高低。
注意：EDI工藝需要限定進水硬度以免結(jié)垢。在進水硬度<0.1 ppm時坎貝爾™ EDI系統(tǒng)的回收率是95%;而當進水硬度>0.1 ppm時濃水中需要加鹽，而且需要定期清洗。在進水硬度超過0.5 ppm時必須事先得到易蒂艾公司的書面確認，否則坎貝爾™ EDI的質(zhì)量保證無效。若在超過允許的回收率下運行坎貝爾™ EDI模塊，會造成結(jié)垢和不可修復的損壞?？财諣朎DI,Canpure,EDI裝置
有機物(TOC)：為0.5 ppm。
氧化劑：Cl2為0.05 ppm，O3為0.02 ppm。
變價金屬：Fe為0.01 ppm，Mn為0.01 ppm。
H2S：為0.01 ppm。
二氧化硅 ：一般應小于0.5 ppm。
SDI 15min：小于1.0。
色度:小于5 APHA。
二氧化碳的總量：二氧化碳含量和pH值將明顯影響產(chǎn)品水電阻率。如果CO2大于10 ppm，坎貝爾™ EDI系統(tǒng)不能制備高純度的產(chǎn)品水?？梢酝ㄟ^調(diào)節(jié)反滲透進水pH值或使用脫氣裝置來降低CO2量。
濃水循環(huán)
坎普爾™ EDI系統(tǒng)一般需要濃水循環(huán)。但在某些條件下也可以不循環(huán)，例如EDI給水硬度<0.1 ppm并且電導率較高的情況。
濃水室的進出口壓力必須小于淡水室的進出口壓力，所以濃水的流量由壓力決定。
在運行過程中，濃水循環(huán)可以增加濃水室的導電性，同時有助于提高濃水的流速以避免結(jié)垢。
坎普爾™ EDI模塊的濃水流量最小不能低于產(chǎn)品水的10%。低于該流量運行時，濃水室容易結(jié)垢，也可能造成模塊內(nèi)部組成受熱變形而漏水。
為避免濃水中離子過度積累，需要排放少量濃水，排放掉的濃水由進水補充。
控制濃水的電導率在50到600 mS/cm之間。
系統(tǒng)加鹽
進水電導率低時，坎普爾™ EDI模塊的電流較小，這樣會影響產(chǎn)品水水質(zhì)。這時可以選擇加鹽裝置，來提高濃水電導率。
環(huán)保在線