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上海伯東普發(fā)渦輪分子泵成功應(yīng)用于磁控濺射

閱讀:406發(fā)布時(shí)間:2014-12-3

上海伯東代理德國(guó)普發(fā) Pfeiffer 渦輪分子泵 Hipace 700 成功應(yīng)用于寧波某研究所磁控濺射(Megnetron Sputtering)系統(tǒng).寧波某研究所磁控濺射(Megnetron Sputtering)系統(tǒng)用于光刻膠片上濺金屬鉻,銅,鈦.其中材料生長(zhǎng)腔工作真空度要求 < E-7 hPa,能做到4英寸片,3靶位,可實(shí)現(xiàn)編程鍍膜.材料生長(zhǎng)腔對(duì)渦輪分子泵的要求較高,老師在考量了德國(guó)普發(fā) Pfeiffer Hipace 700 渦輪分子泵和愛德華 Edwards STP603 分子泵后,因?yàn)閷?duì)分子泵的壓縮比要求較高,zui終選擇了德國(guó)普發(fā) Pfeiffer 分子泵.

-------寧波某研究所磁控濺射系統(tǒng)加裝 Pfeiffer 渦輪分子泵-----

德國(guó)普發(fā) Pfeiffer 渦輪分子泵 Hipace 700 主要優(yōu)點(diǎn):
1.高壓縮比 >1x1011
2.使用壽命長(zhǎng)
3.渦輪分子泵真空度高且穩(wěn)定 < E-7 hPa
4.大抽速 (N2) 685 l/s
5.與愛德華 Edwards STP603 相比,更大壓縮比,真空度高且更穩(wěn)定
值得一提的是,德國(guó)普發(fā) Pfeiffer 渦輪分子泵廣泛應(yīng)用于的磁控濺射廠商,如美國(guó) SVTA,芬蘭 DCA,北京匯德信等.

寧波某研究所磁控濺射(Megnetron Sputtering)系統(tǒng),同時(shí)使用上海伯東德國(guó)普發(fā) Pfeiffer 真空規(guī) PKR 251 測(cè)量腔體真空度,美國(guó) HVA6'S 真空閥門和德國(guó)普發(fā) Pfeiffer 氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340 檢漏腔體.

上海伯東德國(guó)普發(fā) Pfeiffer 渦輪分子泵 Hipace 系列產(chǎn)品抽速范圍 10 l/s 至 2300 l/s,轉(zhuǎn)子速率可達(dá)90000rpm。更有渦輪分子泵組 Hicube 系列和全磁浮渦輪分子泵 ATH 系列供選擇已滿足不同應(yīng)用。Pfeiffer 渦輪分子泵更獲得歐洲工業(yè)設(shè)計(jì)zui高獎(jiǎng)“紅點(diǎn)獎(jiǎng)”.


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