ABL2000氣浮平臺

1專為晶片成像/缺陷探測/涂覆應(yīng)用設(shè)計
2運(yùn)動超平滑,速度穩(wěn)定性突出
3直線編碼器或激光干涉儀反饋
4行程達(dá)1.2米
5全預(yù)加負(fù)載氣浮導(dǎo)軌(空氣軸承)
6全部非接觸設(shè)計
行程≤1200mm
精度±0.50um
重復(fù)定位精度±0.20um
直線度±0.25um
平面度±0.25um

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ABL3600氣浮平臺

1專為掃描顯微鏡/掩模/晶片檢測*應(yīng)用設(shè)計
2雙軸,大孔,開放式結(jié)構(gòu)
3非接觸直線編碼器反饋,精度高
4雙直線電機(jī)驅(qū)動XY軸
5所有軸全預(yù)加負(fù)載氣浮導(dǎo)軌(空氣軸承)
行程≤250mm
精度±1um
重復(fù)定位精度±0.20um
直線度±0.50um
平面度±1um

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ABL8000氣浮平臺

1專為有效負(fù)載大,負(fù)載重心偏離機(jī)架中心線的應(yīng)用設(shè)計
2十字交叉結(jié)構(gòu),剛性穩(wěn)定性引人注目,幾何特性*
3所有軸全預(yù)加負(fù)載氣浮導(dǎo)軌(空氣軸承)
4行程達(dá)1米
5直線編碼器或激光干涉儀反饋
6可集成包括花崗巖的XY子系統(tǒng)
行程≤1000mm
精度±0.50um
重復(fù)定位精度±0.20um
直線度±0.40um
平面度±0.40um

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ABL9000氣浮平臺

1世上zui高性能的氣浮平臺,適用于晶片,平板顯示,光學(xué)檢測和加工等要求苛刻的場合
2所有軸全預(yù)加負(fù)載氣浮導(dǎo)軌(空氣軸承)
3行程達(dá)1.2米X1.2米
4Y軸雙直線電機(jī)驅(qū)動
5直線編碼器或激光干涉儀反饋
6主動控制偏轉(zhuǎn)
行程≤1200mm
精度±0.50um
重復(fù)定位精度±0.10um
直線度±0.50um
平面度±0.50um

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AHL9000直線電機(jī)平臺

1專為晶片檢測，平板顯示加工和光學(xué)檢測及制造應(yīng)用設(shè)計
2掃描軸是空氣軸承，步進(jìn)軸是機(jī)械軸承
3行程達(dá)1.2米X1.2米
4雙直線電機(jī)驅(qū)動步進(jìn)軸
5直線編碼器或激光干涉儀反饋
行程≤350mm
精度±1.0um
重復(fù)定位精度±0.20um
直線度±0.60um
平面度±0.60um

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ABG10000氣浮平臺

1氣浮導(dǎo)軌實現(xiàn)超平滑運(yùn)動
2所有軸都預(yù)加載荷
3下面軸采用雙無刷直線伺服電機(jī)驅(qū)動
3行程達(dá)1mx1m
4非接觸直線編碼器(光柵)
5可選Z軸,隔振,機(jī)械底座和控制箱
6適用于高速拾取/放置,自動化裝配,視覺檢測,點膠機(jī),高精度檢測．
行程≤1000mm
精度±2um
重復(fù)定位精度±0.5um
直線度±1um
平面度±1um

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ABRS旋轉(zhuǎn)氣浮平臺

1專為高精密檢測，光學(xué)檢測及制造和納米技術(shù)設(shè)備制造應(yīng)用設(shè)計
2無刷無槽伺服電機(jī)直接驅(qū)動
3突出的速度穩(wěn)定性（電機(jī)無接頭效應(yīng)）
4的運(yùn)動性能,誤差小,無抖動
5直聯(lián)高精度旋轉(zhuǎn)編碼器
6扁平結(jié)構(gòu)設(shè)計
7無機(jī)械接觸
臺面直徑128.1-278.1mm
分辨率0.18-0.036arcsec
雙向重復(fù)定位精度<1arcsec

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ABRT旋轉(zhuǎn)氣浮平臺

1專為高精密檢測，光學(xué)檢測及制造和納米技術(shù)設(shè)備制造應(yīng)用設(shè)計
2無刷無槽伺服電機(jī)直接驅(qū)動，高扭拒輸出
3突出的速度穩(wěn)定性（電機(jī)無接頭效應(yīng)）
4的運(yùn)動性能,誤差小,無抖動
5直聯(lián)高精度旋轉(zhuǎn)編碼器
6超大的空心軸徑，無機(jī)械接觸
臺面直徑100-200mm
分辨率0.055-0.027arcsec
雙向重復(fù)定位精度<1arcsec

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PlanarHD氣浮平臺

1zui大2m/s掃描速度和5g加速度的輸出
2zui快的轉(zhuǎn)向和zui小的穩(wěn)定時間
3主動偏轉(zhuǎn)控制
4直線光柵或激光干涉儀反饋
5行程1.2mx1.2m
行程≤1200mm
精度±300nm
重復(fù)定位精度±50nm
分辨率0.25nm