行業(yè)的新伙伴——
蔡司 EVO 掃描電子顯微鏡的品質(zhì)值得信賴， 可
助工業(yè)質(zhì)量保證和失效分析實(shí)驗(yàn)室一臂之力
在工業(yè)質(zhì)量、失效分析或研究領(lǐng)域，由于掃描電子顯微鏡可提供高分辨率成像和高空間分辨率元素化學(xué)信息，所以它是金相學(xué)和失效分析應(yīng)用的理想之選。
專為日常檢測和分析應(yīng)用而設(shè)計(jì)，蔡司EVO 擁有的操作設(shè)計(jì)理念，無論是經(jīng)驗(yàn)豐富的顯微技術(shù)人員還是不具備掃描顯微鏡專業(yè)知識的工程師，均可輕松上手。它能夠提供出色的高質(zhì)量圖像，特別適合于后續(xù)檢測中無法涂覆導(dǎo)電層的非導(dǎo)電零部件。
EVO 的優(yōu)勢在于能夠無縫集成至多模式質(zhì)量保證或失效分析工作流程中，半自動(dòng)化重定位感興趣區(qū)域和數(shù)據(jù)完整性解決方案使其可以實(shí)現(xiàn)跨系統(tǒng)、跨實(shí)驗(yàn)室甚至跨區(qū)域的應(yīng)用。
此外，EVO 還是清潔度分析的工業(yè)級解決方案平臺。憑借大量可選的樣品室、真空系統(tǒng)、電子槍和分析選件，EVO 可以滿足您的性價(jià)比需求。
邁入檢測應(yīng)用新高度——當(dāng)達(dá)到光學(xué)顯微鏡分辨率或襯度極，EVO能助您尋求更多答案
（反射），而二次電子則可獲得樣品表面上的邊緣襯度， 因此能夠提供更詳細(xì)的表面形貌信息，如金屬裂縫。
高性價(jià)比——契合您的性價(jià)比需求
（LaB6）電子槍獲得高達(dá)10倍的電子束亮度。多年來，蔡司不斷致力于掃描電子顯微鏡中 LaB6 電子槍的改進(jìn)，以提高 易用性和圖像質(zhì)量，尤其是在可變壓力模式下。與樣品匹配的真空環(huán)境
技術(shù)參數(shù)
蔡司 EVO 掃描電子顯微鏡的品質(zhì)值得信賴， 可
助工業(yè)質(zhì)量保證和失效分析實(shí)驗(yàn)室一臂之力
在工業(yè)質(zhì)量、失效分析或研究領(lǐng)域，由于掃描電子顯微鏡可提供高分辨率成像和高空間分辨率元素化學(xué)信息，所以它是金相學(xué)和失效分析應(yīng)用的理想之選。
專為日常檢測和分析應(yīng)用而設(shè)計(jì)，蔡司EVO 擁有的操作設(shè)計(jì)理念，無論是經(jīng)驗(yàn)豐富的顯微技術(shù)人員還是不具備掃描顯微鏡專業(yè)知識的工程師，均可輕松上手。它能夠提供出色的高質(zhì)量圖像，特別適合于后續(xù)檢測中無法涂覆導(dǎo)電層的非導(dǎo)電零部件。
EVO 的優(yōu)勢在于能夠無縫集成至多模式質(zhì)量保證或失效分析工作流程中，半自動(dòng)化重定位感興趣區(qū)域和數(shù)據(jù)完整性解決方案使其可以實(shí)現(xiàn)跨系統(tǒng)、跨實(shí)驗(yàn)室甚至跨區(qū)域的應(yīng)用。
此外，EVO 還是清潔度分析的工業(yè)級解決方案平臺。憑借大量可選的樣品室、真空系統(tǒng)、電子槍和分析選件，EVO 可以滿足您的性價(jià)比需求。
邁入檢測應(yīng)用新高度——當(dāng)達(dá)到光學(xué)顯微鏡分辨率或襯度極，EVO能助您尋求更多答案
高分辨率表面形貌
二次電子（SE）成像 – 使用高達(dá)數(shù)納米的分辨率，輕松應(yīng)對幾乎所有亞微米級應(yīng)用。光學(xué)顯微鏡可獲得表面襯度（反射），而二次電子則可獲得樣品表面上的邊緣襯度， 因此能夠提供更詳細(xì)的表面形貌信息，如金屬裂縫。
組分成像
背散射電子（BSE）成像可獲得與零部件或裝配件材質(zhì)密度成比例的襯度。通過獲取組分異質(zhì)性信息可以幫助您找出材料失效或質(zhì)量偏差的根本原因。高空間分辨率元素分析
在能量色散譜儀（EDS）中，通過精準(zhǔn)聚焦的電子束與樣 品之間相互作用產(chǎn)生的 X 射線能夠獲得表面元素組分信息。運(yùn)用掃描電子束在感興趣區(qū)域上得到化學(xué)元素分布。EVO 與 EDS 組合為質(zhì)量檢驗(yàn)或材料失效分析應(yīng)用中的元素化學(xué)信息成像提供出色解決方案。高性價(jià)比——契合您的性價(jià)比需求
樣品室規(guī)格
無論是小型組件，還是大型零部件或裝配件，如傳動(dòng)系統(tǒng)或電氣組件，均可從三種規(guī)格的真空樣品室（EVO 10、 15 和 25）中選擇成像和分析需求的一款。電子槍
選擇標(biāo)準(zhǔn)熱電子槍（ 發(fā)針型鎢絲）， 或選用六硼化鑭（LaB6）電子槍獲得高達(dá)10倍的電子束亮度。多年來，蔡司不斷致力于掃描電子顯微鏡中 LaB6 電子槍的改進(jìn)，以提高 易用性和圖像質(zhì)量，尤其是在可變壓力模式下。
與樣品匹配的真空環(huán)境
為金屬和其他導(dǎo)電零部件選擇標(biāo)準(zhǔn)高真空配置，或選配可變壓力（VP）模式進(jìn)行非導(dǎo)電零部件的成像與分析，無需涂覆或制備，從而不會干擾多模式質(zhì)量保證或失效分析工作流程。在可變壓力模式下，也可選擇品質(zhì)的蔡司C2D 二次電子探測器對非導(dǎo)電零部件進(jìn)行表面形貌成像。
技術(shù)參數(shù)
| EVO 10 | EVO 15 | EVO 25 | |
| 分辨率 | 2 nm, 3nm @ 30 kV SE with LaB6, W | ||
| 3.4 nm @ 30 kV SE VP mode with W | |||
| 6 nm, 8 nm @ 3 kV SW with LaB6 or W | |||
| 9 nm, 20 nm @ 1 kV SE with LaB6, W | |||
| 加速電壓 | 0.2 to 30 kV | ||
| 探針電流 | 0.5 pA to 5 mA | ||
| 放大倍數(shù) | < 7 – 1,000,000x | < 5 – 1,000,000x | < 5 – 1,000,000x |
| 視野大小 | 6 mm at Analytical Working Distance (AWD) | ||
| 能譜分析工作距離 | 8.5 mm AWD and 35 degree take-off angle | ||
| Optibeam 模式 | Resolution, Depth, Analysis, Field, Fisheye | ||
| 可變真空氣壓范圍 | 10 – 400 Pa (VP option), 10 – 3000 Pa (EP option) | ||
| 可以配置的探測器 | ETSE / VPSE-G4 / C2D / C2DX HDBSD / YAG-BSD STEM / CL EDS / WDS / EBSD | ||
| 樣品倉尺寸 | 310 mm (Ø) x 220 mm (h) | 365 mm (Ø) x 275 mm (h) | 420 mm (Ø) x 330 mm (h) |
| 5軸電動(dòng)樣品臺 | X = 80 mm, Y = 100 mm, Z = 35 mm, T = - 10° to 90º, R = 360º (continuous) | X = 125 mm, Y = 125 mm, Z = 50 mm, T = -10° to 90º, R = 360º (continuous) | X = 130 mm, Y = 130 mm, Z = 50 mm, T = -10° to 90º, R = 360º (continuous) |
| 樣品高度 | 100 mm | 145 mm | 210 mm |
| 圖像尺寸 | Up to 32k x 24k pixels | ||
