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ABM雙面對準（BSV）光刻機

參考價	￥ 1500000
訂貨量	≥1臺

具體成交價以合同協(xié)議為準

公司名稱上海螣芯電子科技有限公司
品牌其他品牌
型號ABM350BSV
所在地上海市
廠商性質(zhì)代理商
更新時間2025/3/11 22:05:32
訪問次數(shù)13

產(chǎn)品標簽:

光刻機接觸式光刻機紫外光刻機半自動光刻機

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公司介紹主營產(chǎn)品

上海螣芯電子科技有限公司（ShangHai TengXin Electronic Technology Co., Ltd）主要為半導(dǎo)體、微組裝領(lǐng)域的客戶提供設(shè)備集成和技術(shù)咨詢服務(wù)。目前公司與眾多半導(dǎo)體企業(yè)及科研院所達成合作，擁有在半導(dǎo)體制造、微組裝領(lǐng)域等經(jīng)驗豐富的技術(shù)團隊。螣芯科技產(chǎn)品涵蓋：

封裝檢測：X-ray 設(shè)備|推拉力測試機|氦檢漏儀|外觀檢測AOI設(shè)備|奧林巴斯顯微鏡等

螣芯電子科技秉承為客戶提供高性價比技術(shù)產(chǎn)品方案，且不斷優(yōu)化業(yè)務(wù)結(jié)構(gòu)和提升服務(wù)品質(zhì)，持續(xù)為客戶提供高品質(zhì)服務(wù)。

展開顯示更多內(nèi)容

貼片機，鍵合機，推拉力測試機，等離子清洗機，超掃顯微鏡，X光機，光刻機，刻蝕機等

產(chǎn)品簡介在線詢價

產(chǎn)地	進口

ABM雙面對準（BSV）光刻機ABM350BSV
主要配置: 6”，8”光源系統(tǒng) 可支持2”，3”，4”，6”，8”（圓/方片）及碎片光刻（支持特殊工藝卡盤設(shè)計）手動系統(tǒng)，半自動系統(tǒng), 支持電源350-2000 Watt
支持深紫外近紫外波長（可選項）<1.84度； CCD或顯微鏡對準系統(tǒng)

ABM雙面對準（BSV）光刻機產(chǎn)品信息

ABM雙面對準（BSV）光刻機

ABM雙面對準（BSV）光刻機ABM350BSV

光學(xué)系統(tǒng)ABM雙面對準（BSV）光刻機ABM350BSV

光學(xué)系統(tǒng)
  曝光時間調(diào)解器：0.1至999.9秒(可調(diào)節(jié)精度0.1s)；
  365-400nm光強傳感及電源供應(yīng)控制電路及反饋閉環(huán)；
  聲控功率警報裝置可防止系統(tǒng)功率超過設(shè)定指標；
  有安全保護裝置的溫度及其氣流傳感器；
  全景準直透鏡光線偏差半角: <1.84度；
  波長濾片檢查及安裝裝置；
  抗衍射反射功能高效反光鏡；
  二向色的防熱透鏡裝置；
  防汞燈泄漏裝置；
  配備蠅眼棱鏡裝置；
  配備近紫外光源，
     --220 nm 輸出強度 – 大約 8-10 mW/ cm2
     --254 nm 輸出強度 – 大約 12-14 mW/ cm2
     --365 nm 輸出強度 – 大約 18-20 mW/ cm2
     --400 nm 輸出強度 – 大約 30-35 mW/ cm2

主要配置:
  6”，8”光源系統(tǒng)
  可支持2”，3”，4”，6”，8”（圓/方片）及碎片光刻（支持特殊工藝卡盤設(shè)計）
  手動系統(tǒng)，半自動系統(tǒng),
  支持電源350-2000 Watt
  支持深紫外近紫外波長（可選項）<1.84度；
  CCD或顯微鏡對準系統(tǒng)

主要性能指標：:
  光強均勻性Beam Uniformity:
     --<±1% over 2” 區(qū)域
     --<±2% over 4” 區(qū)域
     --<±2.5% over 6” 區(qū)域
  接觸式樣曝光特征尺寸CD（深紫外DUV）：0.35 um
  接觸式樣曝光特征尺寸CD(近紫外NUV）： 0.5 um
  支持接近式曝光，特征尺寸CD:
     --0.8um 硬接觸
     --1um 20 um 間距時
     --2um 50um 間距時
  正面對準精度±0.5um
  支持正膠、負膠及Su8膠等的厚膠光刻，特征尺寸：100um-300um
  支持LED優(yōu)異電流控制技術(shù)PSS工藝光刻
  支持真空、接近式、接觸式曝光
  支持恒定光強或恒定功率模式