島津KRATOS高性能成像X射線光電子能譜儀 AXIS SUPRA*
X射技光電子能酒悅作為客種材料的化學(xué)狀態(tài)毋析慢器，可以難確地確走材料泰言元囊的化學(xué)狀態(tài)。被廣泛應(yīng)用于各種低婚新材料、姚米材料和表面科學(xué)的研究中。
AXI5 SUFRA屋島津Kra的新研發(fā)出的一款高湍X射線光電子能蘧愎，兼?zhèn)涓叻蛛钴镒V和快進(jìn)甲行霞像動(dòng)能，具備高"量分憂,高靈都度,高空間勞精的特點(diǎn)。
-杰出的薪電中和技術(shù)輕粒分析不同類型樣品
-高功豐文射版源保證低含量元素測定
–雙屆能量分析圈喁保高某集效率和瞌像空間分熱車·多模式離子添實(shí)理從超薄到超厚的分糲
–豐畜的靈活性可以拓醫(yī)多種酎忡和表面分?jǐn)嗉夹g(shù)
主要用途
XPS：固體樣品的表面組成分析，化學(xué)狀態(tài)分析，取樣訊息深度為～10nm以內(nèi). 功能包括:
1. 表面定性與定量分析. 可得到小於10um 空間分辨率的X射線光電子能譜的全譜資訊。
2. 維持10um以下的空間分辨率元素成分包括化學(xué)態(tài)的深度分析（角分辨方式,,氬離子或團(tuán)簇離子刻蝕方式）
3. 線掃描或面掃描以得到線或面上的元素或化學(xué)態(tài)分布。
4. 成像功能。
5. 可進(jìn)行樣品的原位處理 AES：1.可進(jìn)行樣品表面的微區(qū)選點(diǎn)分析（包括點(diǎn)分析，線分析和面分析） 2.可進(jìn)行深度分析適合： 納米薄膜材料，微電子材料，催化劑，摩擦化學(xué)，高分子材料的表面和界面研究
