1）光催化氧化除臭設備技術原理
光催化氧化除臭設備利用高能紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產(chǎn)生臭氧。臭氧的氧化能力和臭氧在紫外光的照射下產(chǎn)生的高活性的離子氧（羥基自由基）將惡臭物質轉化為無毒害的二氧化碳、水、硫酸、硝酸等簡單無機物，從而達到凈化廢氣的目的，該反應過程是高能紫外線輻射和臭氧協(xié)同作用下的一種高級氧化過程。
紫外光和臭氧協(xié)同作用較單獨臭氧氧化效率高很多，紫外光的照射會加速臭氧的分解，產(chǎn)生的活性自由基·OH的氧化電位（2.8ev）比氧化性*的臭氧的氧化電位（2.07）還高出35%，因此羥基自由基與有機物的反應速度高出幾個數(shù)量級，而且羥基自由基對氧化污染物的反應是無選擇性的，可引發(fā)鏈式反應，因此惡臭物質不僅能被臭氧直接氧化，而且能被臭氧分解的產(chǎn)物羥基自由基氧化，且后者在紫外光作用下占主導地位。
2）技術特點
Ø 高效除惡臭：能高效去除揮發(fā)性有機物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，凈化、脫臭效率zui高可達99%以上，凈化、脫臭效果大大超過國家1993年頒布的惡臭污染物排放標準（GB14554-93）．
Ø 無需添加任何物質：只需要設置相應的排風管道和排風動力，使工業(yè)廢氣通過本設備進行分解凈化，無需添加任何物質參與化學反應。，
Ø 適應性強：可適應高濃度，大氣量，不同工業(yè)廢氣物質的凈化處理，可每天24小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定可靠。
Ø 運行成本低：本設備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，本設備能耗低，（每處理1000立方米/小時，僅耗電約0.2度電能），設備風阻極低＜50pa,可節(jié)約大量排風動力能耗。
Ø 無需預處理：工業(yè)廢氣無需進行特殊的預處理，如加溫、加濕等，設備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃－95℃之間，濕度在30%－98%、PH值在4-10之間均可正常工作。
Ø 設備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件，設備占地面積＜1平方米/處理10000m3/h風量。
Ø 優(yōu)質進口材料制造：防火、防腐蝕性能高，性能穩(wěn)定，使用壽命長。
