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北京中科復(fù)華科技有限公司作者
無掩膜激光直寫系統(tǒng)
| 資料類型 | pdf文件 | 資料大小 | 1776464 |
| 下載次數(shù) | 0 | 資料圖片 | 【點(diǎn)擊查看】 |
| 上 傳 人 | 北京中科復(fù)華科技有限公司 | 需要積分 | 0 |
| 關(guān) 鍵 詞 | 激光直寫,光刻,無掩膜光刻 | ||
- 【資料簡介】
PicoMaster 100 采用波長405納米二極管激光器，它擁有市場(chǎng)上最小的300納米激光分辨率。升級(jí)375納米激光源，可以更好地兼容市面上I-line光刻膠材，從而滿足更高級(jí)別的應(yīng)用需求。備用光學(xué)模塊，將大大的降低機(jī)器停機(jī)時(shí)間。更為人性化的軟件設(shè)計(jì)，大大提升了用戶實(shí)際操作效率，它將是您科學(xué)研究、實(shí)驗(yàn)開發(fā)、設(shè)計(jì)創(chuàng)新，理想的光學(xué)伙伴。PicoMaster 100廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻, LED芯片,微流控芯片,微納結(jié)構(gòu),灰度光刻,三維加工,全息影像等多個(gè)領(lǐng)域。
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