光催化氧化設(shè)備給人類的發(fā)展起著推動的作用，是環(huán)保行業(yè)中的常用設(shè)備。光催化氧化設(shè)備是利用紫外線光束惡臭氣體，裂解惡臭氣體能夠?qū)?、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類、苯、甲苯、二甲苯的分子鍵等呈游離狀態(tài)的污染物分子與臭氧氧化結(jié)合成小分子無害或低害的化合物，如CO2、H2O等光解氧化設(shè)備在無需預(yù)處理和添加任何物質(zhì)的情況下就能除惡臭，并且適應(yīng)性強，運行成本低，占地面積小而輕，使用壽命長。
光催化氧化設(shè)備利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進而產(chǎn)生臭氧。lUV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧),*臭氧對有機物具有*的氧化作用，對工業(yè)廢氣及其它刺激性異味有*的清除效果。
光催化氧化設(shè)備性能特點：
1、降解有機化學(xué)物：能去除揮發(fā)性有機物（VOC）無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達90%以上，脫臭效果大大超過1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)（GB14554—93）。
2、無需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動力，使氣體通過本設(shè)備進行脫臭分解凈化，無需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。
3、適應(yīng)性強：可適應(yīng)中濃度，大風(fēng)量，不同有機學(xué)氣體物質(zhì)的凈化處理，可每天24小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定可靠。
4、運行成本低：本設(shè)備無任何機械動作，無噪音，無需專人看管，只需作定期維護。
光催化氧化設(shè)備能有效去除揮發(fā)性有機物、硫化氫、氨氣等無機物類污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率高可達99%上，脫臭效果大大優(yōu)于頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)(GB14554-93)。光催化氧化設(shè)備可適應(yīng)于絕大部分高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，通過合理的模塊配置可廣泛應(yīng)用于：煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾中轉(zhuǎn)站、污水泵房、*空調(diào)等惡臭氣體的脫臭凈化處理。