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ParticleTrack G400實(shí)時(shí)粒徑與粒數(shù)分析儀

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更新時(shí)間:2021-07-16 14:14:41瀏覽次數(shù):575次

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所在地區(qū):福建福州市

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

在實(shí)驗(yàn)室中研究顆粒粒徑和粒數(shù)采用FBRM技術(shù)的ParticleTrackG400是直接插入到實(shí)驗(yàn)室反應(yīng)器中的探頭式儀器,以便在全工藝過程濃度下實(shí)時(shí)追蹤顆粒粒徑及粒數(shù)變化

詳細(xì)介紹

在實(shí)驗(yàn)室中研究顆粒粒徑和粒數(shù)

采用 FBRM 技術(shù) 的 ParticleTrack G400 是直接插入到實(shí)驗(yàn)室反應(yīng)器中的探頭式儀器,以便在全工藝過程濃度下實(shí)時(shí)追蹤顆粒粒徑及粒數(shù)變化。 隨著實(shí)驗(yàn)條件的變化,持續(xù)監(jiān)測(cè)顆粒、顆粒結(jié)構(gòu)和液滴為科學(xué)家提供足夠證據(jù)以獲得具有所需屬性的一致顆粒。

顆粒粒徑與粒數(shù)直接影響多相工藝中的性能,包括結(jié)晶、乳化和絮凝。 通過實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)顆粒粒徑與粒數(shù),科學(xué)家能夠使用基于證據(jù)的方法自信地了解、優(yōu)化和放大實(shí)驗(yàn)過程。

在為離線分析進(jìn)行采樣和制備時(shí),顆??赡馨l(fā)生變化。 通過追蹤過程中自然存在的顆粒的粒徑與粒數(shù)的變化,科學(xué)家能夠安全且無延遲地了解工藝過程 – 甚至是在溫度與壓力條件下。

隨著實(shí)驗(yàn)條件的變化,通過連續(xù)監(jiān)測(cè)顆粒,能夠確定過程參數(shù)對(duì)顆粒粒徑和粒數(shù)的影響。 這種*的信息可用于設(shè)計(jì)能夠持續(xù)提供具有優(yōu)化特性的顆粒的過程。

 

縱覽

實(shí)驗(yàn)室中 ParticleTrack G400 的常見應(yīng)用包括:

? 結(jié)晶工藝開發(fā)

? 表征乳化和液滴系統(tǒng)

? 優(yōu)化顆粒粒徑分布

ParticleTrack G400 的主要特征:

? 設(shè)計(jì)緊湊,具有便攜性,占用最小空間的實(shí)驗(yàn)室

? 探頭可互換,可用于范圍廣泛的實(shí)驗(yàn)室規(guī)模(10mL 至 2L)

? 與 OptiMax 和 EasyMax 合成工作站無縫集成,進(jìn)行的實(shí)驗(yàn)設(shè)置

? iC FBRM 軟件,進(jìn)行快速、直觀的顆粒數(shù)據(jù)分析

ParticleTrack G400 比以前的梅特勒-托利多 Lasentec FBRM 技術(shù)(S400 和 D600)有了重大改進(jìn)。

 

? 實(shí)時(shí)研究顆粒粒徑與粒數(shù)

科學(xué)家將 ParticleTrack 探頭直接插入到過程流體中,以長(zhǎng)時(shí)間連續(xù)監(jiān)測(cè)顆粒粒徑與粒數(shù),而無需采樣。 這種*的信息成為有效了解涉及晶體、顆粒和液滴的過程的基礎(chǔ)。

? 借助 ParticleTrack將過程與顆粒系統(tǒng)相關(guān)聯(lián)

科學(xué)家可以定期確定過程參數(shù)如何影響顆粒系統(tǒng)。 可以確定過程參數(shù)對(duì)生長(zhǎng)、團(tuán)聚、破損和形狀變化等機(jī)制的影響,從而可以使用基于證據(jù)的方法對(duì)過程進(jìn)行優(yōu)化和改進(jìn)。

? 創(chuàng)建符合目的的顆粒系統(tǒng)

科學(xué)家使用 ParticleTrack 來確定如何穩(wěn)定得到所需粒徑和粒數(shù)的顆粒產(chǎn)品。 在研發(fā)、中試到投入生產(chǎn)的過程中,通過選擇的過程參數(shù),科學(xué)家可以以較低的總成本快速向市場(chǎng)提供高品質(zhì)的顆粒產(chǎn)品。

? 監(jiān)測(cè)并糾正過程偏差

ParticleTrack 用于對(duì)生產(chǎn)中的既定過程進(jìn)行監(jiān)測(cè)、故障排除和改進(jìn)。 可以安全地監(jiān)測(cè)難以采樣的復(fù)雜過程,確保一致地生產(chǎn)質(zhì)量盡可能的顆粒。

 

規(guī)格 - ParticleTrack G400

測(cè)量范圍0.5 – 2000μm; 0.5-2000um
溫度范圍(主機(jī)/現(xiàn)場(chǎng)裝置)5 至35°C
主機(jī)說明實(shí)驗(yàn)室主機(jī)
主機(jī)尺寸(高x寬x長(zhǎng))89 mm x 237 mm x 492 mm
認(rèn)證CE 認(rèn)證, 1 類激光, NRTL 認(rèn)證, CB Scheme 認(rèn)證
電源要求100-240VAC, 50/60Hz, 1.2A
適用于實(shí)驗(yàn)室: EasyMax/OptiMax
軟件iC FBRM
掃描系統(tǒng)電子掃描儀
掃描速度2m/s (19mm探頭為1.2m/s)
弦長(zhǎng)選擇方法(CSM)Primary(精細(xì))和 Macro(粗糙)
探頭直徑14/9.5mm; 19mm探頭; 9.5mm
探頭浸濕長(zhǎng)度206mm (用于 14/9.5mm 探頭); 400mm (用于 19mm 探頭); 91mm (用于 9.5mm 探頭)
探頭浸濕合金C22
窗口(W)藍(lán)寶石
標(biāo)準(zhǔn)窗口封條Kalrez® (標(biāo)準(zhǔn) 19mm); TM(標(biāo)準(zhǔn) 14/9.5 ); TM(標(biāo)準(zhǔn)9.5,14/9.5)
探頭/窗口選件TM 窗口(用于19mm 探頭的選件)
額定壓力(探頭)3barg (標(biāo)準(zhǔn)); 高達(dá) 100barg (自定義)
額定溫度(探頭)-10 至 90°C (Kalrez 和清洗); -80 至 90°C (TM 和清洗); +10 至 90°C (標(biāo)準(zhǔn))
導(dǎo)管長(zhǎng)度3m [9.8ft]
空氣要求低流量清洗(使用以避免冷凝物); 流量: 5NL/min [0.2SCFM]; 清洗歧管的入口壓力: 8.6barg [125 psig]; 清洗歧管的出口壓力: 0.8barg [12psig]
ParticleTrack型號(hào)ParticleTrack G400
物料號(hào) (s)

 

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