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零下150超低溫試驗(yàn)箱，極寒試驗(yàn)艙是一種可以維持超低溫環(huán)境的實(shí)驗(yàn)室，該設(shè)備采用機(jī)械制冷的方式達(dá)到-150度低溫環(huán)境，無(wú)需液氮輔助制冷。在超低溫下，熱力學(xué)性質(zhì)的測(cè)...

潔凈無(wú)氧烘箱，氮?dú)鉄o(wú)氧 烘箱用于觸摸屏、晶圓、LED、PCB板、ITO玻璃等精密電子、太陽(yáng)能、新材料等行業(yè).半導(dǎo)體晶片、半導(dǎo)體封裝和MEMS器件的批量生產(chǎn)。主要...

后曝光氮?dú)夂嫦?，PEB無(wú)塵烘箱所使用的高溫（100-130°C）會(huì)使光敏化合物擴(kuò)散，從而消除駐波波紋.百級(jí)潔凈度無(wú)塵化，專用于半導(dǎo)體，集成電路。

聚酰亞胺PI無(wú)氧烘箱，氮?dú)鈦啺坊嫦鋺?yīng)用于精密電子元件、PI、CPI/PBO/LCP/BCB膠高溫固化烘烤、銀膠固化、光刻膠固化、電子陶瓷材料無(wú)塵烘干的特殊工藝...

氮?dú)夂嫦?，掩膜板烘箱在掩膜版的生產(chǎn)制造過(guò)程中，掩膜版基板在光阻涂布后會(huì)有一個(gè)烘烤的環(huán)節(jié)，又稱為前烘。

光伏電池片HMDS處理系統(tǒng)，HMDS預(yù)處理烘箱就是涂膠前要進(jìn)行增粘處理。由于襯底表面吸水特性，使疏水的光刻膠無(wú)法與親水的晶圓表面結(jié)合良好。未經(jīng)過(guò)HMDS表面處理...

HMDS烘箱，太陽(yáng)能電池片HMDS烘箱適用行業(yè)：MEMS、太陽(yáng)能、電池片、濾波、放大、功率等器件，晶圓、玻璃、貴金屬，SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)、ZnO...

水冷無(wú)氧化烘箱，高溫?zé)o氧烘箱升溫方式：程序線性升溫降溫方式：風(fēng)冷+水冷輔助降溫氧含量：氧含量≤20ppm

真空無(wú)氧烤箱，無(wú)氧化真空烘箱用于光刻膠BCB，聚酰亞胺PI/CPI固化，BPO固化，LCP纖維熱處理，

HMDS專用烘箱，HMDS真空涂膠系統(tǒng)適用行業(yè)：MEMS、濾波、放大、功率等器件，晶圓、玻璃、貴金屬，SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)、ZnO（氧化鋅）、Ga...

低溫脆性試驗(yàn)機(jī)，橡膠脆化溫度測(cè)試機(jī)GB/T 15256-2014《硫化橡膠低溫脆性的測(cè)定（多試樣法）》國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)、GB/T 1682-2014《硫化橡膠低溫脆性的...

前烘氮?dú)夂嫦?，硬烘潔凈烘箱?yōu)化光刻膠的光學(xué)吸收特性，提高光刻膠對(duì)襯底的黏附性

桌上型HMDS烘箱，小型HMDS真空烤箱采用HMDS涂布方法改變晶圓表面的親水性，從而增大晶圓表面的接觸角），增強(qiáng)光刻膠和晶圓的粘附力。

HMDS增粘劑烘箱，HMDS涂膠機(jī)即HMDS(六甲基二硅烷)增粘劑氣相涂布，涂膠工藝的配置機(jī)臺(tái)。

外延片烘箱，氮?dú)鉂崈艉嫦溲悠瑢⑺鐾庋悠湃牒嫦渲?在120℃～140℃的溫度下,將所述外延片烘烤10～30分鐘

墨點(diǎn)烘箱，墨點(diǎn)氮?dú)夂嫦涫前雽?dǎo)體行業(yè)，芯片加工工藝流程中打墨點(diǎn)工藝后，將硅片放入烘箱進(jìn)行墨點(diǎn)烘干專用設(shè)備。

碳化硅HMDS烘箱，SiC襯底HMDS烤箱將HMDS氣相沉積至半導(dǎo)體制造中氮化鎵（GaN）和、碳化硅（SiC）、硅片、砷化鎵等材料表面后，經(jīng)系統(tǒng)加溫可反應(yīng)生成以...

堅(jiān)膜烘箱，氮?dú)鈭?jiān)膜烤箱的作用是在一定的溫度下,對(duì)顯影后的襯底進(jìn)行烘焙。這將使光刻膠的表面在表面張力的作用下而圓滑化,并使光刻膠層中的缺陷(如針孑L)因光刻膠表面...

自然通風(fēng)老化箱，精密老化試驗(yàn)機(jī)滿足電纜新標(biāo)準(zhǔn)GB/T 2951-2008《電纜絕緣和護(hù)套材料通用試驗(yàn)方法》主要適用于電線、電纜、塑料、橡膠等行業(yè)做熱老化試驗(yàn)及熱...

塑料低溫脆性試驗(yàn)裁刀，GB/T5470塑料裁刀試樣的長(zhǎng)為20.0±0.25mm，寬為2.5±0.05mm，厚為2.0±0.1mm