ModuLab XM是模塊化的電化學(xué)量測(cè)系統(tǒng)，其核心是一高速、高性能的恒電位/恒電流儀，能精準(zhǔn)地進(jìn)行控制和測(cè)量。有一系列模塊供選購(gòu)，以使電化學(xué)測(cè)試系統(tǒng)符合特殊應(yīng)用所需，包括：燃料電池開(kāi)發(fā)、電化學(xué)分析、納米技術(shù)及腐蝕/涂層研究。

詳細(xì)介紹

　　
Modulab XM電化學(xué)綜合測(cè)試系統(tǒng)的儀器簡(jiǎn)介：
ModuLab XM是模塊化的電化學(xué)量測(cè)系統(tǒng)，其核心是一高速、高性能的恒電位/恒電流儀，能精準(zhǔn)地進(jìn)行控制和測(cè)量。有一系列模塊供選購(gòu)，以使電化學(xué)測(cè)試系統(tǒng)符合特殊應(yīng)用所需，包括：燃料電池開(kāi)發(fā)、電化學(xué)分析、納米技術(shù)及腐蝕/涂層研究。各個(gè)選購(gòu)模塊進(jìn)行各自獨(dú)立的校正，因此增加模塊到ModuLab系統(tǒng)就像“即插即用”般地簡(jiǎn)單!儀器的前面板可輕易取下，然后插入新的模塊，而當(dāng)儀器再次開(kāi)機(jī)時(shí)，新的模塊即可由軟件快速偵測(cè)出來(lái)。
ModuLab XM系統(tǒng)不僅可以像“即插即用”般地以許多方式設(shè)定配置，而且可以由在一臺(tái)儀器上從單通道升級(jí)為多通道。從一個(gè)機(jī)箱一臺(tái)恒電位儀，到同一機(jī)箱搭配許多臺(tái)恒電位儀，或多個(gè)機(jī)箱、每個(gè)機(jī)箱各有多臺(tái)恒電位儀之?dāng)U充系統(tǒng)。多臺(tái)恒電位儀可用一部PC作控制，或者多部PC整合到一個(gè)系統(tǒng)中，從而依需要控制全部恒電位儀群組。同時(shí)隨時(shí)都可增加額外的恒電位儀及選購(gòu)件到每個(gè)機(jī)箱內(nèi)。
ModuLab XM系統(tǒng)運(yùn)用*的Over-Sampling采樣信號(hào)處理技術(shù)，無(wú)論使用哪種組合，且即使是在>10KV/s的zui大的掃描速率之下操作，都能提供超平滑的循環(huán)伏安波形。該信號(hào)發(fā)生器性能可確保待測(cè)體系不受步進(jìn)與暫態(tài)雜波所干擾，因?yàn)镸oduLab XM的“平滑掃描”就是這個(gè)意思。所使用的DSP高精度數(shù)字技術(shù)能確保在整個(gè)掃描速度范圍下可有精準(zhǔn)的波形產(chǎn)生與分析，而無(wú)需改變操作模式或連接。
ModuLab XM系統(tǒng)的每項(xiàng)選件都經(jīng)過(guò)精心的設(shè)計(jì)，以便與核心恒電位/恒電流儀及其它選件無(wú)間隙地結(jié)合，以擴(kuò)大系統(tǒng)控制與測(cè)量之功能，給予研究人員毫無(wú)限制的測(cè)試平臺(tái)。
ModuLab XM系統(tǒng)提供的軟件既靈活、功能豐富，又容易使用。提供大量的實(shí)驗(yàn)類(lèi)型可供選擇，從標(biāo)準(zhǔn)的開(kāi)路、循環(huán)伏安法測(cè)試到復(fù)雜的包括樣品準(zhǔn)備的多步驟順序、高級(jí)別的實(shí)驗(yàn)技術(shù)及綜合的阻抗分析…。
ModuLab XM軟件運(yùn)用在實(shí)驗(yàn)開(kāi)發(fā)所有階段的曲線(xiàn)圖形，所以用戶(hù)可確切知道要應(yīng)用什么波形到電解池上。當(dāng)參數(shù)被輸入軟件，將顯示實(shí)驗(yàn)運(yùn)行時(shí)應(yīng)用到電解池的實(shí)時(shí)波形圖及連接圖，使用者可檢查電解池是否正確連接，并在實(shí)驗(yàn)開(kāi)始前作好調(diào)整。軟件內(nèi)的連接圖增強(qiáng)了拓展性能，使系統(tǒng)組態(tài)能快速簡(jiǎn)便地再配置設(shè)定，以適應(yīng)任何類(lèi)型的測(cè)試。
軟件允許自由選擇數(shù)據(jù)采集模式，不管所選擇的實(shí)驗(yàn)類(lèi)型為何。例如，運(yùn)行脈沖伏安實(shí)驗(yàn)，可選擇高采樣速率，如此可分析脈沖的實(shí)際形狀（電壓與電流），以便在脈沖上選擇的測(cè)量點(diǎn)。

Modulab XM電化學(xué)綜合測(cè)試系統(tǒng)的主要特點(diǎn)
?高性能“即插即用”模塊，即可擴(kuò)展功能又可擴(kuò)展通道
?64MS/s平滑掃描-LSV、LSP、CV
?高達(dá)1MS/s數(shù)據(jù)采集-脈沖、CV
?100aA電流分辨率
?±25A電流-掃描/脈沖
?±100V槽壓與極化
?10μΩ微阻抗測(cè)量
?＞100TΩ超高阻抗測(cè)量
?多種高速EIS技術(shù)