HW-TouchHW-Touch石墨紅外消解板

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產(chǎn)品型號(hào)HW-Touch

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廠商性質(zhì)其他

所在地北京市

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更新時(shí)間：2025-02-15 09:42:00瀏覽次數(shù)：38次

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產(chǎn)品分類 品牌分類

  石墨消解器

全部產(chǎn)品列表

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北京盈安美誠(chéng)科學(xué)儀器有限公司

經(jīng)營(yíng)模式：其他

商鋪產(chǎn)品：129條

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)品特點(diǎn)：應(yīng)用領(lǐng)域：HW-Touch紅外消解器采用的紅外加熱技術(shù)和縱向梯度升溫技術(shù)（），具有消解快速、防回流、高效、節(jié)能、方便等優(yōu)點(diǎn)，已成功用于環(huán)保、化工、食品、醫(yī)藥、生化等行業(yè)樣品前處理，HW-Touch石墨消解器同時(shí)可用于微波消解的預(yù)處理和趕酸處理，是原子吸收光譜儀（AAS）、原子熒光光譜儀（AFS）、電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀（ICP-AES）等分析儀器的理想配套產(chǎn)品。

詳細(xì)介紹

HW-Touch石墨紅外消解板的應(yīng)用領(lǐng)域：

HW-Touch石墨紅外消解板具有消解快速、防回流、高效、節(jié)能、方便等優(yōu)點(diǎn)，已成功用于環(huán)保、化工、食品、醫(yī)藥、生化等行業(yè)樣品前處理，同時(shí)可用于微波消解的預(yù)處理和趕酸處理，是原子吸收光譜儀（AAS）、原子熒光光譜儀（AFS）、電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀（ICP-AES）等分析儀器的理想配套產(chǎn)品。

的儀器特點(diǎn)：

1)加熱均勻：加熱體選用導(dǎo)熱性能*的耐高溫高純石墨，保證消解面板溫度均勻，中心點(diǎn)與邊緣間溫差?。幌舛鄠€(gè)樣品時(shí)能保證各個(gè)樣品在相同的反應(yīng)溫度和條件下進(jìn)行批量處理，克服了傳統(tǒng)的平板電熱板的種種缺陷。

2)耐腐蝕：高純石墨表面涂有特氟隆涂層，易清潔且耐腐蝕，可以在強(qiáng)酸強(qiáng)堿等腐蝕環(huán)境中放心使用。

3)控制精確：PID溫控系統(tǒng)，操作簡(jiǎn)單方便，性能優(yōu)良，經(jīng)久耐用?？販鼐?plusmn;1.0℃，加熱速率可調(diào)，實(shí)現(xiàn)程序升溫并控制加熱保持時(shí)間，完成加熱程序后自動(dòng)停止加熱。

4)高效：有效加熱面積為：470×314mm，可進(jìn)行樣品批次處理，提高工作效率。

5)應(yīng)用范圍廣泛：可用于實(shí)驗(yàn)室常規(guī)加熱反應(yīng)；可精確控制樣品消解；可為微波消解后的樣品快速趕酸，無(wú)需轉(zhuǎn)移至其他同功能容器中即可定容。

6)高溫：采用紅外加熱方式，溫度可達(dá)到460℃，特殊高溫特氟隆鍍層高純石墨作為加熱材質(zhì)。

的技術(shù)參數(shù)：

型號(hào)	HW-Touch
加熱方式	紅外加熱
加熱材料	高溫高純石墨(噴涂特氟龍涂層)
有效加熱面積	470×314 mm
控制方式	PID
工步數(shù)	30段
控溫范圍	RT-460℃
控溫精度	±0.1℃
保護(hù)功能	過(guò)熱保護(hù)、加熱保持時(shí)間可控
zui大功率	3500W
電源要求	AC 220V/50Hz/10A
設(shè)備尺寸 W×D×H	770×520×200 mm
標(biāo)準(zhǔn)配置	高硼硅玻璃消解瓶30套（含回流裝置）；消解瓶架一套；特氟龍消解杯30套。