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北京中科復(fù)華科技有限公司
初級(jí)會(huì)員 | 第1年

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  • 無(wú)掩膜激光直寫系統(tǒng)

    PicoMaster ATE-100 采用波長(zhǎng)405納米二極管激光器,擁有300納米激光分辨率,可升級(jí)為375納米激光源,以更好地兼容市面上I-line光刻膠材...

    型號(hào): PicoMaste... 所在地:北京市參考價(jià): ¥10更新時(shí)間:2025/5/14 9:24:23 對(duì)比
    激光直寫光刻系統(tǒng)無(wú)掩膜直寫系統(tǒng)
  • 瑞士高分辨深紫外光刻機(jī)

    PHABLE設(shè)備基于Eulitha采用的位移塔爾博特光刻(DTL)技術(shù),通過低成本的光刻系統(tǒng)提供高分辨率光刻。DTL克服了傳統(tǒng)光刻中衍射的局限性,可曝光出質(zhì)量?jī)?yōu)...

    型號(hào): PhableR 所在地:北京市參考價(jià): ¥20更新時(shí)間:2025/5/13 9:38:44 對(duì)比
    高分辨深紫外光刻機(jī)光刻
  • 引線鍵合機(jī)

    全新設(shè)計(jì)的WB-200型半自動(dòng)細(xì)絲鍵合機(jī)非常適合實(shí)驗(yàn)室研發(fā),產(chǎn)品原型試產(chǎn),產(chǎn)品評(píng)估,產(chǎn)品返修等在有限預(yù)算下,同時(shí)必須要保證高質(zhì)量鍵合的用戶。

    型號(hào): WB-200 所在地:北京市參考價(jià): ¥20更新時(shí)間:2025/5/13 8:59:38 對(duì)比
    引線鍵合機(jī)球焊 楔焊引線鍵合金絲 銀絲 銅絲
  • 桌面掃描電鏡

    ZEM系列臺(tái)式掃描電鏡,以其成像技術(shù)和便攜性,滿足了多樣化的應(yīng)用場(chǎng)景。這一系列產(chǎn)品在國(guó)內(nèi)市場(chǎng)上以其定位和系列化布局,實(shí)現(xiàn)了成像清晰度、操作便捷性、系統(tǒng)一體化等關(guān)...

    型號(hào): ZEM18 所在地:北京市參考價(jià): ¥20更新時(shí)間:2025/5/12 9:01:26 對(duì)比
    桌面電鏡臺(tái)式掃描電鏡SEM
  • DMD激光直寫光刻機(jī)

    桌面小型化無(wú)掩模光刻機(jī)是一種先進(jìn)的光刻技術(shù)設(shè)備,它不需要使用傳統(tǒng)的物理掩膜版來(lái)轉(zhuǎn)移電路圖形,而是通過計(jì)算機(jī)控制的高精度光束直接在感光材料上進(jìn)行掃描曝光,形成所需...

    型號(hào): ZML10A 所在地:北京市參考價(jià): ¥20更新時(shí)間:2025/5/12 8:22:52 對(duì)比
    激光直寫無(wú)掩膜光刻DMD直寫設(shè)備
  • 磁控濺射鍍膜設(shè)備

    磁控濺射法是在高真空充入適量的氬氣,在陰極(柱狀靶或平面靶)和陽(yáng)極(鍍膜室壁) 之間施加幾百K 直流電壓,在鍍膜室內(nèi)產(chǎn)生磁控型異常輝光放電,使氬氣發(fā)生電離。

    型號(hào): MSP-300/4... 所在地:北京市參考價(jià): ¥10更新時(shí)間:2025/4/28 8:42:06 對(duì)比
    磁控濺射鍍膜
  • 化學(xué)氣相沉積(PECVD)

    是一種在沉積腔室利用輝光放電使其電離后在襯底上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)沉積的半導(dǎo)體薄膜材料制備和其他材料薄膜的制備方法

    型號(hào): PECVD-601... 所在地:北京市參考價(jià): ¥10更新時(shí)間:2025/4/28 8:41:28 對(duì)比
    PECVD氣相沉積
  • 熱阻/電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)設(shè)備

    電子束蒸發(fā)系統(tǒng)是化合物半導(dǎo)體器件制作中的一種重要工藝技術(shù)。它是在高真空狀態(tài)下由電子束加熱坩堝中的金屬,使其熔融后蒸發(fā)到所需基片上形成金屬膜??烧舭l(fā)很多難熔金屬或...

    型號(hào): MEB-600/8... 所在地:北京市參考價(jià): ¥10更新時(shí)間:2025/4/28 8:35:14 對(duì)比
    電子束蒸發(fā)鍍膜鍍膜
  • 電子束曝光系統(tǒng)/曝光機(jī)

    pharos310曝光是利用電子束在涂有感光膠的晶片上直接描畫或投影復(fù)印圖形的技術(shù),它的特點(diǎn)是分辨率高、圖形產(chǎn)生與修改容易、制作周期短。其中掃描曝光系統(tǒng)是電子束...

    型號(hào): pharos310 所在地:北京市參考價(jià): ¥5000000更新時(shí)間:2025/4/25 17:10:14 對(duì)比
    EBL電子束曝光系統(tǒng)電子束光刻機(jī)電子束曝光機(jī)
  • 納米通用圖形發(fā)生器

    圖形發(fā)生器+SEM(FIB)=簡(jiǎn)易電子束曝光系統(tǒng)(EBL) 保留電鏡原有功能。

    型號(hào): DY-2000A 所在地:北京市參考價(jià): ¥450000更新時(shí)間:2025/4/25 17:09:19 對(duì)比
    圖形發(fā)生器納米圖形發(fā)生器電子束曝光
  • TOHO 薄膜應(yīng)力測(cè)量?jī)x

    薄膜應(yīng)力測(cè)量:在硅片等基板上附膜時(shí),由于基板和薄膜的物理定數(shù)有異,產(chǎn)生應(yīng)力,進(jìn)而引起基板變形。由涂抹均勻的薄膜引起的變形的表現(xiàn)為基板的翹曲,而薄膜應(yīng)力測(cè)量裝置F...

    型號(hào): 日本 Toho ... 所在地:北京市參考價(jià): ¥640000更新時(shí)間:2025/4/25 17:06:28 對(duì)比
    薄膜應(yīng)力測(cè)試薄膜應(yīng)力測(cè)量
  • 紫外光刻機(jī)

    光刻機(jī)可廣泛用于MEMS和光電子,例如LED生產(chǎn)。它經(jīng)過特殊設(shè)計(jì),方便處理各種非標(biāo)準(zhǔn)基片

    型號(hào): URE-2000/... 所在地:北京市參考價(jià): ¥300000更新時(shí)間:2025/4/25 17:06:02 對(duì)比
    光刻機(jī)紫外掩膜光刻機(jī)光學(xué)光刻機(jī)
  • 紫外光刻機(jī)

    截止到2008年1月,ABM公司在世界范圍售出了500多臺(tái)光刻機(jī),50多臺(tái)單獨(dú)曝光系統(tǒng)??蛻舭绹?guó)NSA和INTEL、哈佛大學(xué)、LG、菲利普、惠普、3M等,A...

    型號(hào): ABM/6/350... 所在地:北京市參考價(jià): ¥200更新時(shí)間:2025/4/25 17:05:42 對(duì)比
    紫外光刻機(jī)光學(xué)光刻機(jī)
  • 感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機(jī)(ICP)

    感應(yīng)耦合等離子體刻蝕系統(tǒng)利用射頻天線,通過感應(yīng)耦合方式在放電腔中產(chǎn)生高密度等離子體,同時(shí)刻蝕工作臺(tái)引入射頻偏壓,射頻偏壓作用下,等離子體中垂直向下對(duì)被刻蝕材料表...

    型號(hào): DISC-ICP-... 所在地:北京市參考價(jià): ¥10更新時(shí)間:2025/4/25 17:05:10 對(duì)比
    感應(yīng)耦合等離子刻蝕等離子刻蝕ICP
  • 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(RIE)

    反應(yīng)離子腐蝕技術(shù)是一種各向異性很強(qiáng)、選擇性高的干法腐蝕技術(shù)。它是在真空系統(tǒng)中利用分子氣體等離子來(lái)進(jìn)行刻蝕的,利用了離子誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)來(lái)實(shí)現(xiàn)各向異性刻蝕,即是利用離...

    型號(hào): DISC-RIE-... 所在地:北京市參考價(jià): ¥10更新時(shí)間:2025/4/25 17:04:46 對(duì)比
    等離子刻蝕反應(yīng)離子刻蝕RIE
  • 離子束刻蝕機(jī)(IBE)

    IBE刻蝕機(jī)采用離子束刻蝕技術(shù),其原理基于離子和固體表面的相互作用。具體而言,離子束通過控制系統(tǒng)加速并聚焦,然后瞄準(zhǔn)待刻蝕的樣品表面。離子束在與樣品表面相撞時(shí),...

    型號(hào): DISC-IBE-... 所在地:北京市參考價(jià): ¥10更新時(shí)間:2025/4/25 17:04:25 對(duì)比
    離子束刻蝕IBE
  • 杜邦蝕刻殘留物去除液

    EKC265™蝕刻后殘留物器廣泛應(yīng)用在半導(dǎo)體行業(yè),以滿足關(guān)鍵的清潔需求從高深寬比MEMS器件100μm+到DRAM 的70nm集成的各個(gè)階段

    型號(hào): 杜邦 EFC265 所在地:北京市參考價(jià): ¥1500更新時(shí)間:2025/4/25 17:01:45 對(duì)比
    杜邦蝕刻殘留物去除液刻蝕濕法去除劑
  • 激光芯片開封機(jī)

    激光芯片開封機(jī):芯片激光開封機(jī)的工作原理是利用高能激光蝕刻掉芯片或者電子元器件的塑封外殼,從而光學(xué)觀測(cè)或者電氣性能測(cè)試提供了可能性,以便于實(shí)現(xiàn)X射線等無(wú)損檢測(cè)無(wú)...

    型號(hào): Smart Etc... 所在地:北京市參考價(jià): ¥5更新時(shí)間:2025/4/25 17:00:43 對(duì)比
    IC剝離機(jī)激光芯片開裝芯片剝離
  • 杜邦 刻蝕液

    杜邦 刻蝕液,濕法刻蝕是純粹的化學(xué)反應(yīng),它是利用化學(xué)試劑,與被刻蝕材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成可溶性物質(zhì)或揮發(fā)性物質(zhì)。濕法刻蝕的技能,在古代就得到了很多應(yīng)用。比如在中世...

    型號(hào): EFC270 所在地:北京市參考價(jià): ¥1500更新時(shí)間:2025/4/25 16:59:37 對(duì)比
    杜邦清洗液刻蝕液濕法刻蝕進(jìn)口美國(guó)

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