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金屬磁控濺射儀

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更新時間：2024-04-28 10:23:42瀏覽次數(shù)：176次

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產(chǎn)品簡介

金屬磁控濺射儀，外形小巧，功率電流大小可調(diào)，觸摸屏控制，有工藝儲存功能，外配水冷機可長時間工作。

詳細介紹

金屬磁控濺射儀這是一種易于使用的基本儀器，用于SEM試樣的鍍金。它具有全可變電流控制、帶暫停選項的數(shù)字過程定時器、可變高度試樣臺、鉸鏈頂板和 O 形圈密封真空室。該控制裝置允許獨立于氣體壓力設(shè)置濺射電流，氣體壓力由手動泄漏閥單獨調(diào)節(jié)。覆蓋面和晶粒尺寸針對任何試樣進行了優(yōu)化,徑目標的冷磁控管型磁頭能夠以最小的加熱實現(xiàn)高效的濺射。鍍膜時間由帶有數(shù)字讀數(shù)的定時器設(shè)置并存儲在存儲器中。真空狀態(tài)和濺射電流顯示在C觸摸屏上。

金屬磁控濺射儀廠家供應(yīng)技術(shù)參數(shù)；

控制方式	7寸人機界面手動自動模式切換控制
濺射電源	直流濺射電源
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率	≤1000W
輸出電壓電流	電壓≤1000V 電流≤1A
真空	機械泵 ≤5Pa（5分鐘）分子泵≤5*10^-3Pa
濺射真空	≤30Pa
擋板類型	電控
真空腔室	石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm
樣品臺	可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺轉(zhuǎn)速	8轉(zhuǎn)/分鐘
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離	40-105mm
真空測量	皮拉尼真空計（已安裝測量范圍10E5Pa 1E-1Pa）
預(yù)留真空接口	KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口